[实用新型]一种单晶炉的炉底护盘

说明书

技术领域

本实用新型涉及单晶炉技术领域，更具体地说，涉及一种单晶炉的炉底护盘。

背景技术

单晶炉是一种在惰性气体（氩气为主）环境中，用石墨加热器将多晶硅等多晶材料熔化，用直拉法生长无错位单晶硅的设备。在单晶炉内部，一个由石墨材料制成的炉底护盘被放置在最底部，不锈钢炉底的上方，用以支撑起加热系统、石墨器件和保温系统等。

在单晶炉正常运行时，会产生很多杂质，这些杂质聚集在炉底护盘的排气孔处，并且杂质坚硬，很难清理干净。随着生产炉次的增加，杂质在排气孔处越聚越多，使得排气孔径逐渐减小，甚至将排气孔堵死，影响单晶炉的正常运行，严重时会导致无法拉出单晶，整炉原材料全部报废。同时，由于炉底护盘价格大约为每个8000-10000元，如果要频繁地更换炉底护盘，则会造成设备维修费用的增加。

由以上所述，如何提供一种单晶炉的炉底护盘，以降低单晶炉的设备维修费用，成为本领域技术人员亟需解决的技术问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供一种单晶炉的炉底护盘，以实现降低单晶炉的设备维修费用的目的。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种单晶炉的炉底护盘，包括：

设置有多个安装孔的炉底护盘本体；和

设置有排气孔的排气护盖，排气护盖可拆卸地设置在安装孔中。

优选地，在上述的炉底护盘中，安装孔为阶梯孔。

优选地，在上述的炉底护盘中，排气护盖的外周面上具有与阶梯孔相配合的阶梯面。

优选地，在上述的炉底护盘中，安装孔的直径为90mm。

本实用新型提供了一种单晶炉的炉底护盘，包括炉底护盘本体和排气护盖，其中，炉底护盘本体上设置有多个安装孔；可拆卸地安装在安装孔中的排气护盖上设置有排气孔。

在本实用新型所提供的炉底护盘中，将排气孔设置在能够从炉底护盘本体拆卸下来的排气护盖上。在排气孔周围附着了大量杂质后，可以将排气护盖拆下，换上新的排气护盖。

可以看出，在更换新的排气护盖时，由于其尺寸远小于现有炉底护盘的尺寸，其价格也相应的下降，实现了降低单晶炉的设备维修费用的目的。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例所提供的炉底护盘的装配示意图。

图1中：

炉底护盘本体1、排气护盖2、安装孔10、排气孔20。

具体实施方式

本实用新型实施例公开了一种单晶炉的炉底护盘，以实现降低单晶炉的设备维修费用的目的。

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参考图1，本实施例所提供的炉底护盘包括炉底护盘本体1和排气护盖2。

炉底护盘本体1的形状与尺寸与现有的炉底护盘相同，不同之处在于，将原有的排气孔扩大，作为安装孔10。

排气护盖2可拆卸地设置在安装孔10中，在排气护盖2上设置有排气孔20。

在本实施例所提供的炉底护盘中，将排气孔20设置在排气护盖2上，而排气护盖2能够从炉底护盘本体1拆卸下来。在排气孔20周围附着了大量杂质后，可以将排气护盖2拆下，换上新的排气护盖2。

可以看出，在更换新的排气护盖2时，由于其尺寸远小于现有炉底护盘的尺寸，其价格也相应的下降，实现了降低单晶炉的设备维修费用的目的。

本领域技术人员可以理解的是，在上述实施例所提供的炉底护盘中，炉底护盘本体1和排气护盖2均为石墨材质。可以通过配置能够与上述的杂质反应，而同时又不与排气护盖2反应的酸溶液，将换下的附着有杂质的排气护盖2放置到酸溶液中进行腐蚀反应，从而将排气护盖2上的杂质清理干净，进而使排气护盖2可以再次使用，进一步降低单晶炉的设备维护费用。

为了在组装炉底护盘的过程中便于维护人员对排气护盖2进行定位，在上述实施例所提供的炉底护盘中，安装孔10为阶梯孔。可以看出，只要排气护盖2能够进入到安装孔10中，即说明两者的相对位置正确，为维护人员安装排气护盖2提供了辅助。