[实用新型]一种化学气相沉积设备及其托盘有效
| 申请号: | 201220729105.7 | 申请日: | 2012-12-26 |
| 公开(公告)号: | CN203007414U | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
| 发明(设计)人: | 苏育家;左然;黄颖泉;黄允文 | 申请(专利权)人: | 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
| 代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 杨林;马翠平 |
| 地址: | 314300 浙江省海盐*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 化学 沉积 设备 及其 托盘 | ||
1.一种化学气相沉积设备的托盘,所述托盘包括衬底承载面和多个限位件,所述多个限位件相互间隔设置于所述衬底承载面上,所述多个限位件用于限定多个衬底在所述承载面上的位置,其特征在于:所述限位件在平行所述衬底承载面的平面的第一截面上呈多边形或呈具有向内弯曲的边的多边形,所述多边形的角为圆角。
2.根据权利要求1所述托盘,其特征在于,所述圆角的曲率半径大于等于1mm。
3.根据权利要求1或2所述托盘,其特征在于,所述限位件第一截面为三角形;所述多个限位件分别设置于呈蜂窝状图案拐角点的位置。
4.根据权利要求1或2所述托盘,其特征在于,所述限位件相对所述衬底承载面的高度不小于所述衬底厚度。
5.根据权利要求1或2所述托盘,其特征在于,所述限位件垂直于所述衬底承载面所在平面的第二截面为梯形或三角形。
6.根据权利要求5所述托盘,其特征在于,所述限位件为一棱台或棱锥。
7.根据权利要求1或2所述托盘,其特征在于,所述限位件具有插接部,且所述托盘的衬底承载面上具有与所述插接件对应的插孔,使得所述限位件在所述托盘上任意插拔。
8.根据权利要求1或2所述托盘,其特征在于,所述限位件的材质与所述衬底相同或与所述托盘的材质相同。
9.根据权利要求1或2所述托盘,其特征在于,所述限位件的材质为蓝宝石、碳化硅、氧化锌、硅或锗化硅中的一种。
10.一种化学气相沉积设备,包括腔体和设置在所述顶部的喷淋头和设置在所述腔体底部的托盘,其特征在于:所述托盘为权利要求1~9任意一项所述的托盘。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





