[实用新型]一种阵列基板及其平板显示器

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种平板显示器，特别涉及一种阵列基板及平板显示器。 

背景技术

平板显示器具有完全平面化、轻、薄、省电等特点，符合未来图像显示器发展的必然趋势，近年来得到了飞速发展。目前主要的平板显示器包括：液晶显示器(Liquidcrystaldisplay，LCD)、有机发光显示器(Organiclight-emittingdiode display，OLED)、场效应显示器(Fieldemissiondisplay，FED)、等离子显示器(Plasmadisplaypanel，PDP)以及投影显示技术（包括CathodeRayTub，阴极射线管投影技术、Liquidcrystaldisplay，液晶显示投影技术、Liquidcrystalon Silicon，硅基液晶反射投影技术、DigitalLightProcession，数字光处理投影技术）等。液晶显示器是众多平板显示器件中发展最快、技术最成熟、应用面最广。通常，液晶显示器包括彩膜基板、阵列基板以及填充于所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶。 

阵列基板上通常设置众多的薄膜层，通过对各薄膜层的刻蚀形成薄膜晶体管、像素电极以及公共电极等。为了将更多外围电路集成在阵列基板上，还会在阵列基板上形成一些驱动电路。随着薄膜晶体管的功能越来越强大，阵列基板上集成的电路越来越多，在形成薄膜晶体管和一些主要电路后，阵列基板表面的段差变得非常大。为避免较大的段差导致的各种显示问题，通常，在阵列基板表面会形成一层平坦层。 

如图1所示，阵列基板100包括一绝缘层101、平坦层102以及一钝化层103。其中，所述平坦层102形成于所述绝缘层101上，所述钝化层103形成于所述平坦层102上。通常，平坦层102采用有机膜材料，而钝化层103的制作过程中，多采用高温工艺，有机膜材料在经过高温工艺后，会挥发出一些水汽和其他物质，但是这些挥发物质通常无法穿透膜质致密的钝化层，从而导致个 别区域的钝化层103的表面形成鼓起104（arraybubble），最终导致不良。特别是在显示区域外的周边区域内，钝化层鼓起的现象尤为明显。 

另外，由于有机膜挥发物质存留在钝化层103和平坦层102之间，使所述钝化层103和平坦层102之间的粘附力下降，从而导致所述阵列基板100在后续的剥离信赖性测试（Peelingtest）中，容易出现钝化层103被剥落的情形。 

实用新型内容

本实用新型提供一种阵列基板及其液晶显示器，以解决钝化层表面鼓起和剥离信赖性差的问题，从而实现降低阵列基板的不良发生率和提高信赖性品质的目的。 

为解决上述技术为题，本实用新型提供一种阵列基板，包括： 

一基板，所述基板包括显示区域和包围所述显示区域的周边区域； 

一形成于所述基板上的平坦层； 

一形成于所述平坦层上的钝化层； 

其中，位于所述周边区域内的钝化层上设置有多个透气孔,位于所述周边区域内的所述平坦层上设置有多个通孔。 

可选的，所述阵列基板还包括一形成于所述基板上的绝缘层，所述平坦层形成于所述绝缘层上。 

可选的，所述透气孔暴露出部分所述平坦层，所述通孔暴露出部分绝缘层，所述钝化层通过所述通孔接触所述绝缘层。 

可选的，所述透气孔与所述通孔交错设置。 

可选的，所述透气孔与所述通孔间隔设置。 

可选的，所述阵列基板还包括一形成于所述平坦层上的透明电极层，所述钝化层形成于所述透明电极层上，所述透气孔暴露出部分所述透明电极层，所述透明电极层上设置有多个穿孔，所述穿孔与所述通孔位置对应，所述钝化层通过所述穿孔和所述通孔接触所述绝缘层。 

可选的，所述透明电极层是氧化铟锡或者氧化铟锌。 

可选的，所述钝化层是氮化硅，所述平坦化层是有机膜。 

可选的，所述透气孔和/或所述通孔为圆形或者方形。 

相应的，本实用新型还提供一种液晶显示器，包括所述阵列基板和一与所述阵列基板相对设置的彩膜基板。