[实用新型]一种硅片扩散设备

权利要求书

一种硅片扩散设备，包括炉体、所述炉体连接有用于通入气体的进气管，其特征在于，所述炉体内设有至少一缓冲隔板，所述缓冲隔板将所述炉体隔离成用于使所述气体缓冲并充分混合的缓冲腔，以及用于使所述气体和硅片掺杂反应的掺杂腔。

如权利要求1所述的硅片扩散设备，其特征在于，所述缓冲隔板设于靠近所述进气管口端。

如权利要求2所述的硅片扩散设备，其特征在于，所述缓冲隔板设于靠近所述进气管口2cm‑8cm处。

如权利要求1所述的硅片扩散设备，其特征在于，所述缓冲隔板设有通孔。

如权利要求4所述的硅片扩散设备，其特征在于，所述通孔为圆形孔、椭圆形孔、方形孔、矩形孔或菱形孔。

如权利要求5所述的硅片扩散设备，其特征在于，所述通孔间隔均匀。

如权利要求5所述的硅片扩散设备，其特征在于，所述通孔大小相等。

如权利要求5所述的硅片扩散设备，其特征在于，所述通孔的直径或边长为2mm‑4cm。

如权利要求1~8任一项所述的硅片扩散设备，其特征在于，所述缓冲隔板为石英板。

如权利要求9所述的硅片扩散设备，其特征在于，所述缓冲隔板的尺寸小于或等于所述炉体的内径。