[实用新型]具有双腔体结构废粉仓的硒鼓有效
| 申请号: | 201220727041.7 | 申请日: | 2012-12-26 |
| 公开(公告)号: | CN203069963U | 公开(公告)日: | 2013-07-17 |
| 发明(设计)人: | 刘晓敏 | 申请(专利权)人: | 刘晓敏 |
| 主分类号: | G03G21/12 | 分类号: | G03G21/12 |
| 代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 温旭 |
| 地址: | 519000 广东省珠海市香*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 双腔体 结构 废粉仓 硒鼓 | ||
【技术领域】
本实用新型属于激光打印机技术领域,尤其涉及一种应用于激光打印机、激光传真机或激光复合一体机的具有双腔体结构废粉仓的硒鼓。
【背景技术】
目前,所有的一体式硒鼓包括粉仓和废粉仓,该废粉仓都是设计成只有一个腔体结构,用于收集打印过程中由清洁刮刀从鼓芯表面收集的碳粉,同时也收集了鼓芯表面的纸屑等杂质,这样回收的混有杂质的废粉不能有效地循环再利用,严重影响利用该废粉进行打印的效果。
【实用新型内容】
为了解决现有技术中存在的上述技术问题,本实用新型提供了一种可有效地将废粉和杂质进行分离回收,废粉循环再利用率高,打印效果好的具有双腔体结构废粉仓的硒鼓。
本实用新型解决现有技术问题所采用的技术方案为:
一种具有双腔体结构废粉仓的硒鼓,包括有粉仓盒、废粉仓和鼓芯,所述废粉仓与鼓芯之间设有密封刮片,所述废粉仓设有一用于收集废粉的第一腔体和一用于收集杂质的第二腔体,所述第一腔体的入口处和所述第二腔体的入口处分别设有与所述鼓芯的表面接触连接的清洁刮刀和清洁毛刷。
进一步地,所述废粉仓与鼓芯连接的内侧侧壁设有分隔板,形成所述第一腔体和所述第二腔体,所述第二腔体位于所述第一腔体的前方,且所述清洁毛刷设于所述分隔板的下端,所述密封刮片一端固定在所述第二腔体的前侧,另一端与所述鼓芯的表面接触连接。
进一步地,所述废粉仓内设有所述第一腔体,所述第一腔体的入口处前后两侧分别设有所述密封刮片和清洁刮刀,所述废粉仓的前端继续延伸,且末尾处设有与所述鼓芯的表面接触连接的所述清洁毛刷,与所述密封刮片共同构成所述第二腔体。
本实用新型的有益效果:
本实用新型上述技术方案,鼓芯在转动过程中,其表面的纸屑等杂质和废粉分别先后通过清洁毛刷和清洁刮刀刮落收集至第二腔体和第一腔体内,有效地将废粉和杂质进行分离回收,大大提高了回收废粉的洁净度,循环再利用率高,打印效果好、有保障。
【附图说明】
图1是本实用新型所述一种具有双腔体结构废粉仓的硒鼓实施例一的局部结构示意框图;
图2是本实用新型所述一种具有双腔体结构废粉仓的硒鼓实施例二的局部结构示意框图。
【具体实施方式】
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
实施例一:
如图1中所示,本实用新型提供了一种具有双腔体结构废粉仓的硒鼓,包括有粉仓盒(图中未表示出来)、废粉仓1和鼓芯2,所述废粉仓1与鼓芯2之间设有密封刮片3;所述废粉仓1设有一用于收集废粉的第一腔体11和一用于收集杂质的第二腔体12,所述第一腔体11的入口处和所述第二腔体12的入口处分别设有与鼓芯2的表面接触连接的清洁刮刀4和清洁毛刷5,具体结构为:所述废粉仓1与鼓芯2连接的内侧侧壁设有分隔板13,形成第一腔体11和第二腔体12,所述第二腔体12位于第一腔体11的前方,且清洁毛刷5设于分隔板13的下端,所述密封刮片3一端固定在第二腔体12的前侧,另一端与鼓芯2的表面接触连接。
本实用新型所述的硒鼓工作时,鼓芯2在转动过程中,其表面的纸屑等杂质和废粉分别先后通过清洁毛刷5和清洁刮刀4刮落收集至第二腔体12和第一腔体11内。这样,即可有效地将废粉和杂质进行分离回收,大大提高了回收废粉的洁净度,循环再利用率高,打印效果好、有保障。
实施例二:
如图2中所示,本实用新型实施例二所述的具有双腔体结构废粉仓的硒鼓,其结构与实施例一基本相同,包括有粉仓盒(图中未表示出来)、废粉仓1和鼓芯2;区别仅在于,所述废粉仓1内设有第一腔体11,所述第一腔体11的入口处前后两侧分别设有密封刮片3和清洁刮刀4,所述废粉仓1的前端继续延伸,形成延伸部14,其末尾处设有与鼓芯2的表面接触连接的清洁毛刷5,与密封刮片3共同构成第二腔体12。本实施例采用结构也可有效地将废粉和杂质进行分离回收,回收废粉的洁净度高,循环再利用率高,打印效果好、有保障
以上内容是结合具体的优选技术方案对本实用新型所作的进一步详细说明,不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,都应当视为属于本实用新型的保护范围。
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