[实用新型]艺术设计专用绘图桌

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种绘图辅助工具，更确切地说，是一种艺术设计专用绘图桌。

背景技术

在艺术设计过程中，经常需要外出写生或采风绘图，现有的绘图桌体积较大，占用空间，收纳也十分困难。

实用新型内容

本实用新型主要是解决现有技术所存在的技术问题，从而提供一种艺术设计专用绘图桌。

本实用新型的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的：

一种艺术设计专用绘图桌，所述的艺术设计专用绘图桌包含一第一支架和一第二支架，所述的第一支架通过铰链与所述的第二支架可转动地相连接，所述的第二支架的顶部设有一可翻转的第一平板，所述的第一支架上设有一活动的第二平板。

作为本实用新型的较佳的实施例，所述的第一支架的内侧分别设有一调节长槽，所述的第二平板的底部两端分别设有一调节突出，所述的调节突出与所述的调节长槽相配合。

作为本实用新型的较佳的实施例，所述的调节突出为圆柱形。

本实用新型的艺术设计专用绘图桌利用活动连接的第一支架和第二支架，使用者可以实现快速收纳，简单方便。由于设有可翻转的第一平板和第二平板，使用者可以作为绘图区和工具放置区，方便易用。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的艺术设计专用绘图桌的立体结构示意图；

图2为图1中的艺术设计专用绘图桌的立体结构示意图，此时为展开状态；

图3为图2中的艺术设计专用绘图桌的立体结构分解示意图；

图4为图3中的艺术设计专用绘图桌的A区域的细节放大示意图；

其中，

1、艺术设计专用绘图桌；2、第一支架；21、调节长槽；3、第二支架；4、第一平板；5、第二平板；51、调节突出。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的优选实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。

本实用新型提供了一种艺术设计专用绘图桌。

如图1 至图4所示， 本实用新型的艺术设计专用绘图桌1包含一第一支架2和一第二支架3，该第一支架2通过铰链与该第二支架3可转动地相连接，该第二支架3的顶部设有一可翻转的第一平板4，该第一支架2上设有一活动的第二平板5。

该第一支架2的内侧分别设有一调节长槽21，该第二平板5的底部两端分别设有一调节突出51，该调节突出51与该调节长槽21相配合。

该调节突出51为圆柱形。

该实用新型的艺术设计专用绘图桌利用活动连接的第一支架和第二支架，使用者可以实现快速收纳，简单方便。由于设有可翻转的第一平板和第二平板，使用者可以作为绘图区和工具放置区，方便易用。

以上仅仅以一个实施方式来说明本实用新型的设计思路，在系统允许的情况下，本实用新型可以扩展为同时外接更多的功能模块，从而最大限度扩展其功能。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。