[实用新型]石英坩埚表面自动清洗除砂装置

说明书

技术领域

本实用新型为石英坩埚表面除砂装置，特别涉及石英坩埚表面自动清洗除砂装置，属于石英坩埚制作技术领域。

背景技术

单晶硅棒是生产单晶硅片的原材料，随着国内和国际市场对单晶硅片需求量的快速增加，单晶硅棒的市场需求也呈快速增长的趋势，制作单晶硅棒所使用的石英坩埚的需求量也快速增加。石英坩埚外表面的质量，是否光滑、洁净直接关系到石英坩埚的熔炼产品质量和石英坩埚本身的使用寿命。现在制作石英坩埚时所使用的石英坩埚外表面整形机床系统包括电机、底托、托板、石英坩埚和金刚砂轮，电机带动底托、托板和石英坩埚转动，同时人工操作金刚砂轮，使金刚砂轮在石英坩埚外侧移动，石英坩埚外侧与金刚砂轮工作面发生摩擦，产生整形加工过程。上述过程为半自动化操作，劳动成本过高、效率过低、除杂不干净，所制作的石英坩埚质量无法保证。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对上述现有技术中，石英坩埚表面清洗劳动成本过高、效率过低、除杂不干净、所制作的石英坩埚质量无法保证的缺陷，提供了一种石英坩埚表面自动清洗除砂装置，可以达到石英坩埚表面清洗劳动成本降低、效率提高、除杂干净、并可确保所制作的石英坩埚质量的目的。

为了实现上述目的本实用新型采取的技术方案是：石英坩埚表面自动清洗除砂装置，包括电机、机架、工作台、转轴、圆形底托、橡胶托板、石英坩埚；所述电机安装在机架一侧，所述转轴垂直设置在机架中心位置，转轴和电机传动连接；所述圆形底托与转轴顶部固定连接，所述橡胶托板为圆形、设置在圆形底托上方，与圆形底托固定连接，所述橡胶托板包括其上部的托板凸台，石英坩埚倒放在橡胶托板上，石英坩埚的口径内侧套放在托板凸台外侧、互为紧配合；所述工作台固定设置在机架上方，工作台的上端工作台面设置有限位孔，倒放的石英坩埚下端套设在限位孔内、与限位孔间隙配合；橡胶托板和圆形底托与转轴中轴线垂直，还包括高压水流外罩，所述高压水流外罩倒扣在工作台面上、石英坩埚外面，所述高压水流外罩的内径和高度均大于石英坩埚的直径和高度；在高压水流外罩的四壁和顶部均匀设置有高压水枪；所述高压水枪设置的方向使其射出的高压水流的方向与被射石英坩埚的表面相垂直。

所述高压水流外罩为方形不锈钢容器。

所述圆形底托的直径大于橡胶托板的直径。

所述高压水流压力为250kg/cm²。

所述电机的转速为40-50转/分。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

(1)用高压水流冲洗，省时省力除杂干净；

(2)实现石英坩埚表面细小颗粒的自动化处理，提高石英坩埚表面细小颗粒去除的效率；

(3)使得石英坩埚表面的光滑度有所改善，提高石英坩埚整体质量和品质。

附图说明

图1是：本实用新型主视图(有局部剖视图)；

附图标记说明：1电机、2机架、3工作台、31限位孔、4转轴、5圆形底托、6橡胶托板、61托板凸台、7石英坩埚、8高压水流外罩、81高压水枪。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明，但不作为对本实用新型的限定。

如图1所示，石英坩埚表面自动清洗除砂装置，包括电机1、机架2、工作台3、转轴4、圆形底托5、橡胶托板6、石英坩埚7；所述电机1安装在机架2一侧，所述转轴4垂直设置在机架2中心位置，转轴4和电机1传动连接；所述圆形底托5与转轴4顶部固定连接，所述橡胶托板6为圆形、设置在圆形底托5上方，与圆形底托5固定连接，所述橡胶托板6包括其上部的托板凸台61，石英坩埚7倒放在橡胶托板6上，石英坩埚7的口径内侧套放在托板凸台61外侧、互为紧配合；所述工作台3固定设置在机架2上方，工作台3的上端工作台面设置有限位孔31，倒放的石英坩埚7下端套设在限位孔31内、与限位孔31间隙配合；橡胶托板6和圆形底托5与转轴4中轴线垂直，还包括高压水流外罩8，所述高压水流外罩8倒扣在工作台3面上、石英坩埚7外面，所述高压水流外罩8的内径和高度均大于石英坩埚7的直径和高度；在高压水流外罩8的四壁和顶部均匀设置有高压水枪81；所述高压水枪81设置的方向使其射出的高压水流的方向与被射石英坩埚7的表面相垂直。

所述高压水流外罩8为方形不锈钢容器。所述圆形底托5的直径大于橡胶托板6的直径。所述高压水流压力为250kg/cm²。所述电机1的转速为40-50转/分。