[实用新型]一种曝光机基台的清洗装置

权利要求书

1.一种曝光机基台的清洗装置，其特征在于，包括：

固定架，固定在所述曝光机上；

安装于所述固定架上的清洗耙本体，所述清洗耙本体具有容纳清洗液的容腔以及连通所述容腔的开口；

密封所述开口的塞盖；

位于所述清洗耙本体的清洁面上的海绵，以及一端与所述容腔连通、且将所述容腔内的清洗液引至所述海绵的导液通道；

包裹所述海绵的无尘布。

2.根据权利要求1所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述导液通道为引流管，所述清洗耙本体具有容纳所述引流管的腔室，所述引流管的一端插入所述海绵，另一端与所述容腔相通。

3.根据权利要求2所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述引流管为带有塑料薄管的尼龙线。

4.根据权利要求1所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述清洗耙本体上具有把手，且所述把手的外端安装于所述固定架。

5.根据权利要求4所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述固定架上设有圆形孔，所述把手的横截面为圆形，所述把手的外端插入所述圆形孔内，并通过紧固螺钉安装在所述固定架上。

6.根据权利要求5所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述固定架包括：

导轨；

与所述导轨滑动配合的滑块；

驱动所述滑块往复运动的驱动装置；

所述把手的另一端固定于所述滑块。

7.根据权利要求6所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述驱动装置包括：

与所述导轨相对固定的电机；

与所述电机的输出轴传动连接的螺纹丝杠；

所述螺纹丝杠与所述滑块传动连接。

8.根据权利要求6所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述驱动装置包括：

与所述导轨相对固定的电机；

固定于所述电机输出轴上的齿轮；

与所述滑块固定连接、且与所述导轨平行设置的齿条，所述齿条与所述齿轮啮合。

9.根据权利要求5所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述把手上设有位移传感器。

10.根据权利要求1~9任一项所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述清洗部具有耙型结构。

11.根据权利要求10所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述开口位于所述清洗耙本体中与所述清洁面相对的一端。

12.根据权利要求1所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，还包括固定所述无尘布的固定机构，所述固定机构包括：设置在所述清洗耙本体上的的卡槽以及与所述卡槽配合的圆环。

13.根据权利要求10所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述海绵为晴纶棉。