[实用新型]一种扫描式UV-LED曝光机有效

专利信息
申请号: 201220699411.0 申请日: 2012-12-17
公开(公告)号: CN202995254U 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 郑国平 申请(专利权)人: 天津市德中技术发展有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 代理人: 董一宁
地址: 300384 天津市西青区*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 扫描 uv led 曝光
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于曝光机领域,尤其是一种扫描式UV-LED曝光机。

背景技术

目前,大多数PCB的制作是通过曝光、显影实现图形转移的,其中,曝光通过曝光机等设备实现。过去传统工艺中曝光机采用的光源大多采用高压汞灯或金属卤素灯等多光谱光源,这种光源存在着以下几个问题:

(1)光谱谱线都比较宽,除了光谱主峰与抗蚀剂的吸收峰相匹配外,其它波长段的光都不能被光敏材料吸收,能效低;

(2)上述光源不与光敏材料吸收峰匹配的光以热量的形式散出,导致光敏材料热聚合,导致基材和底版热变形,增加显影难度、图像失真,影响图形转移的精度;

(3)用上述光源进行平行光处理,光路复杂,会造成设备开发成本高,维护保养难;

(4)功率不稳定,寿命短,灯源一般寿命为几百小时,使用这类光源的曝光机,需要设计专门的功能,时时测量发光功率,并在功率衰减时进行补偿,造成设备复杂,可靠性降低,更换灯管更造成使用成本增加。

随着UV-LED曝光机的面市,高压汞灯或金属卤素灯作光源的曝光机逐渐被取代,基本弥补了上述普通光源曝光机的几个缺陷,因其单色性好、能效高、节能环保、不会导致热聚合、LED寿命长等原因倍受青睐。但这种UV-LED曝光机是通常把LED按照一定的间距(25mm)排列成矩阵做成光源,曝光时,光源与被曝光工件相对静止,也存在着以下不足:

(1)矩阵的尺寸一般与曝光机曝光范围相当,如幅面300mmx400mm的双面曝光机,需要384粒LED管,价格相当高;

(2)不论工件尺寸大小,为了确保每个局部曝光量都合适,投照出的光能量都一样,消耗的能量相同,处理小幅面工件时,会产生能量浪费;

(3)对于大幅面LED光源,无论是整体进行平行光处理,还是对每颗LED单独进行平行光处理,技术都相当复杂,导致曝光机的成本增高。 

发明内容

本实用新型的目的在于克服现有技术不足,提供一种避免浪费且光能更加集中的扫描式UV-LED曝光机。

本实用新型采用的技术方案是:

一种扫描式UV-LED曝光机,包括曝光机壳体和曝光室,曝光室位于曝光机壳体内,在曝光室内中部安装有曝光框,在该曝光室内壁上安装有主动轮和从动轮,该主动轮和从动轮由履带传动,在曝光室内还安装有两组传动机构,该两组传动机构相对于曝光框上、下镜像对称且同步逆向运行在履带上,每组传动机构均安装有多个UV-LED灯,两组传动机构的UV-LED灯相向排列。

而且,所述每组传动机构包括:导轨、滑块、基板以及连接块,导轨为两根且水平对称安装在曝光室的内壁上,每根导轨均与履带同向,在两根导轨之间通过滑块导向运行一基板,每个基板的侧端部通过一连接块由履带传动,每个基板相对于曝光框的表面上安装所述多个UV-LED灯。

而且,在所述基板相对于曝光框的表面安装有盖板,该盖板中间制有长条状通孔,UV-LED灯位于在通孔内的基板上。

而且,所述主动轮由一往复式电机驱动。

本实用新型优点和积极效果为:

1、本实用新型将光源输出尺寸进行调节和设置,使曝光工作幅面仅与条状光源的尺寸以及其与工件相对运动的范围有关,不再需要在整个曝光区域上都覆盖LED,节约了LED数量,降低了成本。

2、本实用新型可以根据被曝光件的幅面大小调整UV-LED灯的数量、间距以及扫描的距离,由此控制曝光量,还可以通过调整扫描的速度来控制曝光量;光线仅通过盖板之间的通槽中投射出来,滤掉了大部分斜光,使光的平行性更好。

3、本实用新型通过带轮与履带、导轨与滑块的结构实现灯源基板的往复式平移,结构简单,易于安装,在此基础上,还实现了光源与被曝光件之间的扫描式的曝光。

4、本实用新型对于小幅面的工件,可以滑块缩短行程,由此可节省曝光时间即投照光的量,对于不同面积的被曝光物可相应调节曝光量,从而避免了能量浪费的现象。

附图说明:

图1是本实用新型所在曝光室外部结构示意图;

图2是图1中A-A向截面图;

图3是图2中B-B向截面图;

图4是图3中C部分放大示意图。

具体实施方式:

下面通过附图结合具体实施例对本实用新型作进一步详述,以下实施例只是描述性的,不是限定性的,不能以此限定本实用新型的保护范围。

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