[实用新型]一种用于清洗铌酸锂基片的装置有效
| 申请号： | 201220686281.7 | 申请日： | 2012-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN203018414U | 公开（公告）日： | 2013-06-26 |
| 发明（设计）人： | 陈延清;张海林;黄念青 | 申请（专利权）人： | 上海亨通光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B13/00 | 分类号： | B08B13/00;B08B3/08 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人： | 徐小蓉 |
| 地址： | 200436 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 清洗 铌酸锂基片 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于清洗铌酸锂基片的装置，其特征在于所述装置为一开放式空腔，在所述空腔内壁上开设有插槽，同时在所述空腔的开口侧面上设置有可拆卸的定位栓。
2.根据权利要求1所述的一种用于清洗铌酸锂基片的装置，其特征在于所述装置为圆柱形。
3.根据权利要求1所述的一种用于清洗铌酸锂基片的装置，其特征在于所述空腔至少具有一个开口侧面。
4.根据权利要求1或2所述的一种用于清洗铌酸锂基片的装置，其特征在于所述装置的底部镂空。
5.根据权利要求1所述的一种用于清洗铌酸锂基片的装置，其特征在于所述插槽厚度不小于所述铌酸锂基片的厚度。
6.根据权利要求1所述的一种用于清洗铌酸锂基片的装置，其特征在于所述装置的顶部设置有一小圆柱体，在所述小圆柱体上横向贯穿开设有一通孔。
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