[实用新型]一种研磨液供应装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及化学机械设备领域，具体涉及一种研磨液供应装置。

背景技术

随着半导体行业的发展，集成电路制造行业发展迅速。同样，化学机械研磨作为芯片加工中必不可少的一道工艺也面临着越来越高的挑战。在化学机械研磨工艺中，将半导体晶片放置于研磨头上，并使晶片表面朝下与研磨垫接触，在研磨垫和半导体晶片之间通入研磨液，通过晶片表面和研磨垫之间的相对运动使得晶片表面平坦化。研磨液是化学机械研磨工艺中一项关键的消耗品，在芯片化学机械研磨过程中起着重要的作用。

为了满足化学机械研磨工艺中不同制程的需要，越来越多的研磨液被开发并投入使用，因此出现了各式各样的研磨液供应装置。

研磨液供应装置一般都包括机架、以及安装在该机架上的用于存储研磨液的储液桶。然而，传统的研磨液供应装置存在以下问题：储液桶内的研磨液在长时间放置后，容易产生固态沉淀，当其使用时，这些固态沉淀会连同液体一起被供应到使用端，造成被研磨的晶片表面划伤或者在其表面上附着颗粒物，导致产品的良率下降。

发明内容

本实用新型目的是：针对上述问题，提供一种不易产生沉淀的研磨液供应装置。

本实用新型的技术方案是：所述的研磨液供应装置，包括机架，该机架上装有用于储存研磨液的储液桶，该储液桶上连有至少一根与储液桶的内腔相连通的供液管，所述供液管上设有沿淹磨液流向依次布置的泵和供液阀，还包括回液管，该回液管的一端与所述泵和所述供液阀之间的供液管管段相连通，另一端与所述储液桶的内腔相连通。

作为优选，所述机架上还装有用于搅拌储液桶内的研磨液的搅拌器。

作为优选，所述搅拌器中设有提供动力的马达，该马达为无刷马达。

作为优选，所述储液桶的底部装有排液管，且排液管上设有排液阀。

作为优选，所述供液管连在所述储液桶的底部。

作为优选，所述机架的底部装有万向轮。

作为优选，所述机架上装有推手。

本实用新型的优点是：

1、当本研磨液供应装置不使用时，可以关闭供液阀，开启泵，储液桶内的研磨液经供液管输送至回液管，再由回液管回流至储液桶内。这样就可以是储液桶内的研磨液始终处于运动状态，从而有效地避免了储液桶内的研磨液引长期放置后容易产生沉淀的现象。

2、机架上装有用于搅拌储液桶内的研磨液的搅拌器7，可加剧储液桶内研磨液的运动，同时保证了研磨液的均匀程度。

3、搅拌器采用的马达为无刷马达，这种马达运转时不会产生粉尘污染桶内的研磨液。

4、供液管壳设置多根，可向多个使用端供应研磨液。

5、单一储液桶设计，清洗方便，且可避免不同性质研磨液或化学品混合之风险。

6、机架上装有万向轮和推手，便于设备的移动。

7、储液桶采用封闭式结构设计，可保持水气并避免空气进入桶身内，降低研磨液产生结晶物。

附图说明

下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述：

图1为本实用新型研磨液供应装置的结构示意图；

其中：1-机架，2-储液桶，3-供液管，4-泵，5-供液阀，6-回液管，7-搅拌器，8-排液管，9-排液阀，10-万向轮，11-推手。

具体实施方式

图1出示了本实用新型研磨液供应装置的一个具体实施例，它包括机架1，该机架1上装有用于储存研磨液的储液桶2。储液桶2上连有至少一根（本例为一根）与储液桶的内腔相连通的供液管3。本例中，供液管3连在储液桶2的底部。所述供液管3上设有沿淹磨液流向依次布置的泵4和供液阀5（即泵4位于供液阀5的上游位置）。

本研磨液供应装置还包括一根回液管6，该回液管6的一端与所述泵4和所述供液阀5之间的供液管管段相连通，另一端与所述储液桶2的内腔相连通。

本研磨液供应装置在使用时，预先在储液桶2内装入准备好的研磨液，开启供液管3上的泵4和供液阀5，在泵4的动力作用下，储液桶2内的研磨液沿着供液管3输出至使用端。

当本研磨液供应装置不使用时，可以关闭供液阀5，开启泵4，储液桶2内的研磨液在泵4的作用下经供液管3输送至回液管4，再由回液管4回流至储液桶2内，研磨液流向参照图中箭头所示。这样就可以是储液桶2内的研磨液始终处于运动状态，从而有效地避免了储液桶内的研磨液引长期放置后容易产生沉淀的现象。