[实用新型]预清洗装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及清洗设备领域，更具体地，涉及一种预清洗装置。

背景技术

现有技术中，在利用硅片清洗机等设备对硅片进行清洗前，需将硅片放入预清洗装置的水槽中进行浸泡，防止硅片上浆料的干涸粘连以便除去部分胶条、浆料等。但是因水槽内是死水、不流通，使用一段时间后水会变得很浑浊，水不能及时更新，水位不能保持恒定，从而影响清洗质量。水槽使用一段时间后就需要将其内的水排出，再加入清洁水。清洁水刚加入时符合标准要求，但使用一段时间后水质变脏，又需要重新排水，加水。为了更换水槽内的水需要专门的人工和时间，这样耽误产量，浪费人力，影响工作效率。

实用新型内容

本实用新型旨在提供一种预清洗装置，以实现保持水质清洁、水位可调的目的。

为了实现上述目的，本实用新型提供了一种预清洗装置，包括水槽，水槽包括：排水口；溢流部，溢流部包括设置于水槽侧面的位置高于排水口的溢流口和可选择地打开或封堵溢流口的水位控制部。

进一步地，水位控制部包括螺纹连接件，溢流口设置有与螺纹连接件的螺纹段配合的内螺纹。

进一步地，螺纹连接件包括开口朝向旋入溢流口的一端的轴向盲孔和与轴向盲孔连通的、开设在螺纹连接件的螺纹段上的径向溢流孔。

进一步地，螺纹连接件为螺栓，轴向盲孔开设在螺栓的螺纹端，径向溢流孔的孔缘与螺栓的螺帽的靠近溢流孔的一侧的轴向距离为3mm~8mm。

进一步地，螺纹连接件为螺栓，溢流部还包括设置在螺栓上的位于径向溢流孔与螺栓的螺帽之间的密封垫片。

进一步地，水槽还包括进水口。

进一步地，进水口设置在与溢流部相对的侧壁上。

进一步地，溢流部包括两个以上溢流口和与该两个以上溢流口一一对应的两个以上水位控制部。

进一步地，两个以上溢流口设置于水槽侧面的不同高度处。

进一步地，两个以上溢流口在水平方向上错位布置。

应用本实用新型的预清洗装置，往水槽内不断注入清洁水，同时在水槽上设置溢流部维持水槽水位，设置排水口对水槽清理时排出污水以及通过排水口辅助排水保持水位恒定。由于不断注入的清洁水流经整个水槽，并将污水从溢流部和/或排水口排出，因此，能保持水槽内的水质清洁，同时维持水槽水位实现水位可调节的目的。由于水质清洁，可以保证清洗质量。进一步地，该预清洗装置不需要员工专门换水，可以提升工作效率。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1示出了本实用新型的水槽装置的结构示意图；

图2示出了图1的A向结构示意图。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。

如图1所示，本实施例提供一种预清洗装置。预清洗装置包括水槽1、支撑部2和插片台3。水槽1包括进水口11、排水口12和溢流部13。其中，进水口11设置在与溢流部13相对的水槽1侧壁上。在本实施例中，水槽1具体地为长1m，宽1m，深30cm的长方体，材质为3mm厚的不锈钢。支撑部2用于支撑水槽1。进水口11设置在水槽1前端，进水口11与自来水管等水源接通，用于为水槽1提供水源。但是，在一个未给出的实施例中，进水口11也可取消，由例如自来水管等水源直接为水槽提供水流。排水口12设置于水槽1底部，在进水口11进水流量较大时，用于辅助排水，保持水位恒定。排水口12也可用来对水槽1清理时排出污水。

以上预清洗装置在水槽1上设置了位置与溢流部13相对的进水口11可以不断注入清洁水，同时设置溢流部13维持水槽1水位，设置了排水口12用来对水槽1清理时排出污水以及用于辅助排水保持水位恒定。由于通过进水口11进入水槽1内部的水流经水槽1，将污水从溢流部13和/或排水口12排出，因此，能保持水槽1内的水质清洁，同时维持水槽1的水位实现水位可调节。由于水质清洁，可以保证清洗质量。进一步地，该预清洗装置不需要员工专门换水，可以提升工作效率。

如图1和图2所示，溢流部13包括设置于水槽1侧面的位置高于排水口的溢流口131和可选择地打开或封堵溢流口131的水位控制部132。