[实用新型]一种镀膜设备及靶材有效
| 申请号： | 201220657375.1 | 申请日： | 2012-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN202954086U | 公开（公告）日： | 2013-05-29 |
| 发明（设计）人： | 金原奭;金永珉;金珌奭 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 黄灿;安利霞 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 镀膜 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种镀膜设备，包括：腔体和靶材；其特征在于，
所述靶材为位于所述腔体内部的平行设置的至少两个靶材；
所述腔体具有位于任意两行靶材之间的反应气体输入口。
2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述靶材为长方体形、圆柱体形或者正方体形。
3.根据权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，所述靶材为正方体形时，所述腔体的位于任意两个靶材之间的位置还设置有反应气体输入口。
4.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述腔体的底部具有正对待镀膜的基板的开口。
5.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述反应气体为氧气。
6.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，还包括：控制所述靶材旋转速度的控制装置。
7.一种靶材，其特征在于，包括：平行设置的至少两个靶材。
8.根据权利要求7所述的靶材，其特征在于，所述靶材为长方体形、圆柱体形或者正方体形。
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