[实用新型]一种连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置

权利要求书

1. 一种连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，包括水平传送机构和升降机构,其特征在于所述传送装置的水平传送机构包括基片传送机构和两套平行排列的基片架传送机构,且基片架传送机构的两端均装有升降系统, 该升降系统内设有分别运送基片架和基片的升降机构，基片升降机构通过基片架中间的镂空处托起基片，送至基片水平传送机构上。

2. 根据权利要求1所述的连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，其特征在于所述基片升降机构安装在基片架升降机构上，基片升降机构相对于基片架升降机构做上下运动。

3. 根据权利要求1或2所述的连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，其特征在于所述基片架升降机构包括基片架传送滚轮、电机以及安装在支架上的气缸和导杆，所述气缸和导杆上装有框架，基片架传送滚轮安装在框架上端，气缸推动框架沿导杆运动，带动基片架上下运动，且基片架由基片架传送滚轮运送到基片架水平传送机构上。

4. 根据权利要求3所述的连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，其特征在于所述基片升降机构包括托架、气缸、基片传送滚轮和电机，气缸安装在基片架升降机构的框架下端，托架位于基片架升降机构的框架内侧并安装在气缸上，基片传送滚轮装在托架上端，基片传送滚轮和托架由气缸推动做上下运动，基片传送滚轮输送基片至基片水平传送机构上。

5. 根据权利要求3所述的连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，其特征在于所述基片架传送滚轮为U形轮。

6. 根据权利要求5所述的连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，其特征在于所述基片架为内凹形，在其底面有导向杆，基片放入基片架的内凹面，导向杆位于基片架传送滚轮的U形槽内。

7. 根据权利要求1所述的连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，其特征在于所述两套平行排列的基片架传送机构为上下两层循环水平传送机构。

8. 根据权利要求1所述的连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，其特征在于所述基片传送机构位于升降系统外侧的前端和末端，并高于基片架水平传送机构。