[实用新型]等离子体增强化学气相沉积电极板装置及沉积装置

说明书

技术领域

本实用新型属于等离子体增强化学气相沉积技术领域，具体涉及一种等离子体增强化学气相沉积电极板装置及沉积装置。

背景技术

随着经济建设的快速发展，微电子技术得到了迅猛的发展，等离子体增强化学气相沉积（简称：PECVD）设备的开发和使用也日益广泛。PECVD设备是利用高频电源辉光放电，产生等离子体化学沉积的设备，由于等离子体的存在，从而降低沉积温度。目前，PECVD设备广泛的用于液晶显示行业、太阳能电池行业、半导体器件及大规模集成电路的制造行业等。

等离子体增强化学气相沉积（PECVD）通常被用来在基板（例如用于平面面板显示器的透明基板或半导体晶片）上沉积材料层。PECVD通常是通过导引前驱物气体或气体混合物进入含有基板的真空腔室来完成，通过施加射频给前驱物气体或者气体混合物使其被能量化（例如激发）成等离子体，这些等离子体可以相互反应或者与基底表面物质反应以便沉积成材料层。

目前，薄膜晶体管液晶显示装置（TFT-LCD）制造工艺的成膜过程中，进行等离子体增强化学气相沉积的基板上由于等离子的不均匀分布，容易发生电荷积累，当电荷积累到一定程度就会在基板上发生静电释放，故其难以控制处理操作的均匀性，在基底的表面上形成过厚或者过薄的材料层。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术中存在的上述不足，提供等离子体增强化学气相沉积电极板装置及沉积装置。该等离子体增强化学气相沉积电极板装置能够避免基板上发生静电释放，提高沉积材料层的均匀性。

本实用新型提供一种等离子体增强化学气相沉积电极板装置，包括用于与要进行等离子体增强化学气相沉积的基板相接触的等离子体增强化学气相沉积电极板，其中，所述等离子体增强化学气相沉积电极板上设置有用于将所述基板顶离或放在所述等离子体增强化学气相沉积电极板上的移动定位单元，所述等离子体增强化学气相沉积电极板装置还包括：控制所述移动定位单元的表面电压的移动定位单元电压控制单元，用于使所述移动定位单元在所述基板上产生与所述基板平行的电场。

优选的是，所述移动定位单元与所述等离子体增强化学气相沉积电极板之间通过绝缘件隔开。

优选的是，所述绝缘件的材料为传热绝缘材料。

优选的是，所述等离子体增强化学气相沉积电极板上设置有通孔，所述绝缘件镶嵌在所述通孔的孔壁上，所述移动定位单元贯穿所述通孔，所述移动定位单元贯穿所述通孔部分与所述等离子体增强化学气相沉积电极板之间通过绝缘件隔开。

优选的是，所述移动定位单元将所述基板放在所述等离子体增强化学气相沉积电极板后，所述移动定位单元的外表面与所述等离子体增强化学气相沉积电极板的外表面齐平。

优选的是，所述移动定位单元为多个。

优选的是，多个所述移动定位单元在所述等离子体增强化学气相沉积电极板上均匀排列。

优选的是，还包括用于加热所述移动定位单元的加热单元，和/或用于冷却所述移动定位单元的冷却单元。

和/或用于检测所述移动定位单元温度的温度检测单元。

优选的是，所述移动定位单元包括用于固定支撑的承接单元和用于顶离或者将所述基板放在所述等离子体增强化学气相沉积电极板上的移动单元，所述承接单元与所述移动单元通过伸缩的方式嵌套在一起；当所述移动单元将所述基板放在所述等离子体增强化学气相沉积电极板后，所述移动单元的外表面与所述等离子体增强化学气相沉积电极板的外表面齐平。

本实用新型还提供一种等离子体增强化学气相沉积装置，包括上述的等离子体增强化学气相沉积电极板装置。

本实用新型的等离子体增强化学气相沉积电极板装置可以在基板上形成水平的电场，从而驱动基板上的电荷运动，使电荷被中和或在电路图形（Pattern）中移动时耗散，故可以大大减少等离子体在化学气相沉积的基板表面上沉积材料层过程中的电荷积累，避免基板上发生静电释放。该装置还可改变基板上的局部电场，从而改变局部的成膜速度，以提高等离子体增强化学气相沉积控制处理操作的均匀性，在基底的表面上形成薄厚均匀的材料层。

附图说明

图1是本实用新型实施例2中的等离子体增强化学气相沉积电极板装置的局部剖视结构图；

图2是本实用新型实施例2中的等离子体增强化学气相沉积电极板装置的沿X方向（或Y方向）剖视结构图；

图3是本实用新型实施例2中的等离子体增强化学气相沉积电极板装置的俯视结构图；

图4是本实用新型实施例2中的等离子体增强化学气相沉积电极板装置的中的移动定位单元的结构图。