[实用新型]用于化学气相和紫外光化学干法表面清洗改性的真空装置有效
| 申请号: | 201220605307.0 | 申请日: | 2012-11-15 |
| 公开(公告)号: | CN203002359U | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
| 发明(设计)人: | 陶海华;张双喜;蒋为桥;王庆康 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
| 主分类号: | B01J19/12 | 分类号: | B01J19/12;A61L2/10;C23C16/48 |
| 代理公司: | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人: | 郭国中 |
| 地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 化学 紫外 光化学 表面 清洗 改性 真空 装置 | ||
1.一种用于化学气相和紫外光化学干法表面清洗改性的真空装置,其特征在于,主要由真空腔室、紫外光源系统、真空泵系统和真空控制系统组成,其中,所述紫外光源系统包括相连接的紫外灯控制电源和紫外灯管,所述真空腔室包括外腔室和内腔室,所述外腔室内安装有所述紫外灯管,所述内腔室内设置有所述样品台、加热装置和水冷装置,所述内腔室还设置有气体输入端口、气体输出端口,所述气体输入端口连接有氧气存储装置、氮气存储装置、氩气存储装置、氢气存储装置,能够实现化学气相表面处理,所述紫外灯管发射的光通过所述内腔室的石英窗口,照射到所述样品台上,所述内腔室充有一定压强的氧气;所述真空泵系统和真空控制系统用于产生并控制真空腔室内的真空度。
2.根据权利要求1所述的用于化学气相和紫外光化学干法表面清洗改性的真空装置,其特征在于,所述紫外灯管功率为100W、主要发射波长为184.9nm和253.7nm的紫外光。
3.根据权利要求1所述的用于化学气相和紫外光化学干法表面清洗改性的真空装置,其特征在于,所述内腔室上部主要由石英材料制成,下部主要为不锈钢材料制成,所述内腔室顶部具有在波长184.9nm和253.7nm处高透过率的石英窗口,所述石英窗口的尺寸不小于所述内腔室的内部孔径,所述气体输入端口、气体输出端口设置在所述内腔室下部不锈钢部分。
4.根据权利要求1所述的用于化学气相和紫外光化学干法表面清洗改性的真空装置,其特征在于,所述样品台由石英材料制作,其高度通过控制杆在一定范围内可调节,以实现和有效控制紫外光化学表面处理,所述控制杆由两部分组成,即与所述样品台连接且位于所述内腔室内的石英杆以及与所述石英杆相连通往真空腔室外部的不锈钢杆。
5.根据权利要求1所述的用于化学气相和紫外光化学干法表面清洗改性的真空装置,其特征在于,所述真空泵系统由两级组成泵,即机械泵和分子泵。
6.根据权利要求1所述的用于化学气相和紫外光化学干法表面清洗改性的真空装置,其特征在于,所述真空控制系统主要包括:气体流量计、真空计、温度控制系统和水冷系统。
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