[实用新型]可异地加工的中性色双银复合结构低辐射镀膜玻璃

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种可异地加工的镀有金属铜镀层的双银复合结构低辐射镀膜玻璃。 

背景技术 

   现有的中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃，不可以进行钢化处理，因而不能实行异地加工。

发明内容 

   本实用新型目的，是提供一种可异地加工的中性色双银复合结构低辐射镀膜玻璃，在玻璃基板镀制包含有多层膜层的结构，各膜层结构自玻璃基板向外依次为：第一复合电介质层、铜铝合金层、第一银层、第一保护层、第二复合电介质层、第二银层、第二保护层、电介质层；

其中：第一复合电介质层为：在SiNx镀层上再镀ZnSnOx层，膜层厚度为30nm～80nm；

铜铝合金层为CuAlNx层，膜层厚度为2～10nm；

第一银层、第二银层为Ag，膜层厚度为5nm～15nm；

第一保护层、第二保护层为NiCr，膜层厚度为0nm～14nm；

第二复合电介质层为：在ZnSnOx层上再依次镀SiNx层、ZnSnO_X层膜；层厚度为50nm～150nm；

电介质层为Si₃N₄，膜层厚度为 35nm～50nm。

所述铜铝合金层，其位置位于第一复合电介质层和第二复合电介质层之间的任何位置。 

所述铜铝合金层，为镀制的氮化铜铝合金层。 

本实用新型优点是，在现有的中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃的基础上，改进了中间层的膜层结构，使得新产品可以进行钢化处理，从而实现了可异地加工。 

附图说明

附图1为本实用新型的层结构截面图。 

图中标号说明： 

1-玻璃基板；2-第一复合电介质层；3-铜铝合金层；4-第一银层；5-第一保护层；6-第二复合电介质层；7-银层；8-保护层；9-电介质层。

具体实施方式

本实用新型采用真空磁控溅射镀膜工艺, 各膜层的镀制工艺是： 

第一复合电介质层2，通过交流阴极的硅靶在氩氮氛围中溅射，在氮化硅膜层上由交流阴极锌锡合金靶在氧氩氛围中溅射，镀制ZnSnOx层，其总厚度为60nm；

铜铝合金层3，通过使用铜铝靶材在氮气的氛围中溅射；

第一银层4、第二银层7，通过直流平靶在氩气氛围中溅射；

第一保护层5、第二保护层8，通过直流平靶在氩气氛围中溅射镍铬合金，其中Ni:Cr=80:20；

第二复合电介质层6，通过交流阴极的锌锡合金靶、硅铝合金靶、锌锡合金靶，镀制ZnSnOx/SiNx/ZnSnO_X结构，锌锡合金靶在氧氩氛围中溅射，硅铝合金靶在氮氩氛围中溅射；

电介质层9，通过交流阴极的硅铝合金靶在氮氩氛围中溅射。