[实用新型]一种掩膜板清洁装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及掩膜板清洁技术领域，特别涉及一种掩膜板清洁装置。

背景技术

薄膜晶体管TFT制造技术的核心是光刻技术。光刻的作用是利用掩模板Mask上面的几何图形，通过光化学反应，将图案转移到衬底上（硅片或玻璃基板），其本质是以光刻胶为材料在玻璃基板表面形成TFT图案pattern，这个TFT pattern的作用就是保护在它下面的金属或者其他的薄膜，使其在曝光过程中不被紫外光所改变，下一道刻蚀工序中不被刻蚀掉，从而最终形成我们所需要的TFT pattern。

光刻技术之所以重要，是因为TFT中的精细尺寸都是由光刻过程控制的。在TFT-LCD制造技术中，光刻技术同样占据着非常重要的作用，而光刻工艺中最为关注的是掩模板，其是转移微细图形的母版，主要用于图形的批量复制生产，是TFT-LCD产业链中不可或缺的重要环节。掩模板的质量在很大程度上决定了TFT-LCD的品质。

另外，TFT-LCD生产中，除了在阵列基板上制作晶体管时需要利用掩模版之外，彩色滤光片的制作同样会用到掩模版。

由于生产环境或者生产过程中产生的异物颗粒附着于光刻掩模板的表面，或者由于人为或者其他原因引起掩模板表面的污渍等，这些粒子污物会在掩膜板的图形上造成缺陷，掩模板上有着微米级的电子器件图案，上述缺陷的存在极易对上述电子器件图案造成损害。

若将具有上述缺陷的掩模版返回生产厂商进行清洁处理，所需周期过长，会严重的影响生产的连续性，导致产品的滞后和延迟。

实用新型内容

本实用新型提供了一种掩膜板清洁装置，能够对掩膜板表面的粒子污物进行检测，当掩膜板的表面存在粒子污物时对掩膜板进行清洁，提高生产的连续性，提高产率。

为达到上述目的，本实用新型提供以下技术方案：

一种掩膜板清洁装置，包括：

粒子检测室，内部具有检测掩膜板表面粒子信息的粒子检测装置；

根据所述粒子检测装置采集的粒子信息，当掩膜板的表面存在粒子污物时对掩膜板进行清洁的清洁单元；

夹持并移动所述掩膜板的机械手装置。

优选地，还包括：

储存待清洁掩膜板的掩膜板存储柜；

存放已清洁掩膜板的曝光机掩膜板放置区域。

优选地，所述清洁单元包括：

掩膜板风淋室；

掩膜板湿洗室；

掩膜板烘干室。

优选地，还包括：

信号连接所述粒子检测装置和所述机械手装置的信号处理模块，当粒子检测装置检测到掩膜板表面的粒子污物数量超过一设定值时，所述信号处理模块信号控制所述机械手装置将该掩膜板依次放入掩膜板风淋室、掩膜板湿洗室、掩膜板烘干室，且所述机械手装置将清洁后的掩膜板放入曝光机掩膜板放置区域；当粒子检测装置检测到掩膜板表面存在粒子污物，且数量未超过一设定值时，所述信号处理模块信号控制所述机械手装置将该掩膜板放入掩膜板风淋室清洁后，放入曝光机掩膜板放置区域。

优选地，所述粒子检测室、掩膜板风淋室、掩膜板湿洗室、掩膜板烘干室沿竖直方向依次排列。

优选地，所述掩膜板存储柜的开口与所述掩膜板风淋室、掩膜板湿洗室以及掩膜板烘干室的开口相对设置，且所述机械手装置包括：

沿竖直方向设置的导向条；

可沿所述导向条竖直滑动，以拖动所述掩膜板上下位移的托架；

夹持并水平移动所述掩膜板的机械手；

驱动所述托架以及机械手的驱动装置。

优选地，所述掩膜板风淋室内与所述掩膜板的正面以及反面相对的两个内壁均设有风淋装置。

优选地，所述掩膜板湿洗室内与所述掩膜板的正面以及反面相对的两个内壁均设有湿洗装置。

本实用新型提供的掩膜板清洁装置，包括：

粒子particle检测室，内部具有检测掩膜板Mask表面粒子信息的粒子检测装置；

根据所述粒子检测装置采集的粒子信息，当掩膜板的表面存在粒子污物时对掩膜板进行清洁的清洁单元；

夹持并移动所述掩膜板的机械手装置。

上述掩膜板清洁装置，机械手装置将掩膜板放入粒子检测室内进行检测，通过粒子检测室内的粒子检测装置对掩膜板表面进行检测，处理当掩膜板表面没有粒子污物时，该掩膜板可以直接使用，无需清洁；当掩膜板表面存在粒子污物时，机械手装置将该掩膜板放入清洁单元中进行清洁，将粒子污物去除，无需返回生产厂商进行清洁，缩短掩膜板的清洁周期，提高生产的连续性，提高产率。