[实用新型]一种用于承载MOCVD石墨盘的托盘

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种托盘，具体涉及一种用于承载MOCVD设备中石墨盘的托盘。

背景技术

MOCVD (即金属有机物化学气相沉积) 设备，主要用于化合物半导体材料与器件的生长。石墨盘是MOCVD设备中用来承载圆晶的部件。参见图1，石墨盘在MOCVD设备上有三个储存位置：分别是位于手套箱托盘1、储存室内的H位托盘2及储存室内的L位托盘3之上。由于普通托盘表面和石墨盘紧密接触，相互吸附，特别在温度高于室温时相互吸附力较大，导致机械手在取起石墨盘时，机械手连同石墨盘上下颤动，随之而来引出两个问题：一是放好衬底的石墨盘出入反应室生长时易飞片；二是机械手原位易跑偏，导致取盘时出现机械手撞盘、掉盘、卡死等问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种结构简单、制造方便，能够有效降低与石墨盘吸附力，避免机械手在取起石墨盘时，机械手连同石墨盘上下颤动问题的用于承载MOCVD石墨盘的托盘。

一种用于承载MOCVD石墨盘的托盘，包括分别设置在MOCVD设备中的手套箱托盘、储存室内的H位托盘及储存室内的L位托盘；所述手套箱托盘、储存室内的H位托盘及储存室内的L位托盘的盘体表面均布开设有若干个空气扩散孔。

本实用新型结构简单，制作方便，托盘上空气扩散孔的设计可以有效的降低其与石墨盘的吸附力，避免了由于过大的吸附力而导致的飞片、机械手原位跑偏等问题。

附图说明

图1为现有技术中用于承载MOCVD石墨盘的托盘的结构示意图。

图2为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

以下结合具体实施例，对本发明做进一步说明。应理解，以下实施例仅用于说明本发明而非用于限制本发明的范围。

实施例1

参见图2，本实用新型提供的一种用于承载MOCVD石墨盘的托盘，包括分别设置在MOCVD设备中的手套箱托盘1、储存室内的H位托盘2及储存室内的L位托盘3，所述手套箱托盘1、储存室内的H位托盘2及储存室内的L位托盘3的盘体表面均布开设有若干个空气扩散孔4，所述空气扩散孔4的形状、尺寸、数量可根据需要进行调整，当托盘托举住石墨盘后，利用石墨盘的温度将托盘与石墨盘之间的空气向周围扩散，等温度降低时周围空气又重新回到托盘与石墨盘之间，这样就不会出现石墨盘与托盘相互吸附的现象，可以满足不同时段的生产需要，不会出现由于吸力导致的飞片和机械手原位跑偏带来的硬件损失。