[实用新型]实现肖特基二极管功能的双极集成电路结构有效

专利信息
申请号: 201220504000.1 申请日: 2012-09-27
公开(公告)号: CN202772141U 公开(公告)日: 2013-03-06
发明(设计)人: 陈冠峰;张骁宇;卜慧琴 申请(专利权)人: 无锡华润矽科微电子有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L27/06;H01L21/329
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人: 王洁
地址: 214000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 实现 肖特基 二极管 功能 集成电路 结构
【权利要求书】:

1.一种实现肖特基二极管功能的双极集成电路结构,其特征在于,所述的双极集成电路结构包括:

衬底;

N埋层和P埋层,分别生成于所述的衬底内;

外延层,生成于所述的衬底上;

上隔离层和深磷层,分别生成于所述的外延层内;

N阱、基区和P-层,分别生成于所述的外延层内;

发射区,生成于所述的深磷层上;

肖特基接触孔,通过一次蚀刻形成于所述的基区内;以及

硅化合物肖特基势垒层,通过蒸发铝形成于所述的肖特基接触孔内。

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