[实用新型]一种用于去除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置有效
| 申请号： | 201220502867.3 | 申请日： | 2012-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN202893722U | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | 吴亚军;冯立学;梁会宁;胡元庆;李华恩 | 申请（专利权）人： | 奥特斯维能源（太仓）有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 215434 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 去除 硅片 表面 硅酸钠 残留 喷淋 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于去除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置，其特征在于：包括机械臂（1），喷淋支架（2），喷淋头（3），花篮（4），制绒槽（5），所述的机械臂（1）与喷淋支架（2）固定连接，所述的喷淋支架（2）上设有喷淋头（3），所述的花篮（4）设于喷淋支架（2）的下方与喷淋头（3）相对应，所述的花篮（4）与机械臂（1）通过挂钩连接，所述的制绒槽（5）设于花篮（4）的下方。
2.根据权利要求1所述的一种用于去除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置，其特征在于：所述喷淋支架（2）下方均匀地分布着喷口向下的喷淋头（3）。
3.根据权利要求1所述的一种用于去除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置，其特征在于：所述的制绒槽（5）内设有加热装置（51）。
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