[实用新型]齿顶间隙局部增阻密封齿形结构

权利要求书

1.齿顶间隙局部增阻密封齿形结构，其特征在于，该结构包括转子、静子、密封齿及凸起机构，所述的转子位于静子的下方，所述的密封齿设有数个，垂直固定于静子或转子上，密封齿与其相对应的转子或静子之间保持有间隙，各密封齿之间设有膨胀控室，所述的凸起机构设在密封齿的正下方。

2.根据权利要求1所述的齿顶间隙局部增阻密封齿形结构，其特征在于，该结构还包括有台阶，该台阶位于密封齿的正下方并垂直固定在转子上，所述的台阶与密封齿之间保持有间隙，台阶的中间位置设有凸起机构。

3.根据权利要求1或2所述的齿顶间隙局部增阻密封齿形结构，其特征在于，所述的密封齿的顶端垂直于密封齿的方向设有一个凹槽，该凹槽的长度为齿厚的1/2，在齿顶沿圆周方向分布一圈，深度为齿厚的1/4。

4.根据权利要求3所述的齿顶间隙局部增阻密封齿形结构，其特征在于，所述的凹槽位于密封齿的中间位置。

5.根据权利要求1或2所述的齿顶间隙局部增阻密封齿形结构，其特征在于，所述的凸起机构的长度为齿厚的1/2，在静子壁面沿圆周方向一圈，高度为齿厚的1/4。

6.根据权利要求3所述的齿顶间隙局部增阻密封齿形结构，其特征在于，所述的凸起机构设置在凹槽的对应壁面上。