[实用新型]透明导电膜卷绕镀膜装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种卷绕镀膜设备，特别是涉及一种用于柔性透明导电膜的卷绕镀膜装置。

背景技术

真空卷绕镀膜技术是在真空室内通过热蒸发或者磁控溅射等方法在柔性基材表面制备一层或者多层具有一定功能的薄膜的技术。真空卷绕镀膜设备主要技术特征是：其一，被镀基材为柔性基材，即具有可卷绕性；其二，镀膜过程具有连续性，即在一个工作周期内镀膜是连续进行的；其三，镀膜过程在一定的真空环境中进行。所以真空卷绕镀膜设备的基本结构必须有卷绕转动，有基材的放卷和收卷。在放卷和收卷过程中基材被镀上薄膜。镀膜的结构就是真空卷绕镀膜设备的工作部。它位于基材的收放卷之间。镀膜部分的工作原理可以是电阻蒸发、感应蒸发、电子束蒸发、磁控溅射或者是其它真空镀膜方法中的任意一种。

传统的柔性透明导电膜生产的控制技术仅仅是对电源参数的控制，对于过程的可控性不高。

实用新型内容

基于此，有必要提供一种生产控制程度较高的透明导电膜卷绕镀膜装置。

一种透明导电膜卷绕镀膜装置，包括依次相连的放卷室、镀膜室及收卷室以及真空获得系统，所述放卷室将柔性基材运送到所述镀膜室内镀膜，形成透明导电膜，所述收卷室用于接收所述透明导电膜，所述真空获得系统安装于所述镀膜室，用于获得镀膜所需的真空状态，所述透明导电膜卷绕镀膜装置还包括控制系统，所述控制系统包括：

气体分析仪，设于所述镀膜室内，用于分析所述镀膜室内的气体成分和含量，其中的气体有Ar，O₂，H₂O，H₂，N₂，CO，CO₂等；

真空计，设于所述镀膜室内，用于测量所述镀膜室内的气压，镀膜工作气压一般在10^-4~10^-3Torr；

气体流量计，设于所述镀膜室的进气管道上，用于控制所述镀膜室的进气量；

张力控制系统，设于放卷室、镀膜室及收卷室内，用于控制柔性基材的平稳运行；及

计算机，与所述在线气体分析仪、真空计及气体流量计相连。

在其中一个实施例中，所述控制系统还包括设于所述镀膜室内并与所述计算机相连的电阻仪，用于检测透明导电膜的电阻。

在其中一个实施例中，所述控制系统还包括设于所述镀膜室内并与所述计算机相连的在线透过率测试仪，用于实时检测透明导电膜的透过率。

上述透明导电膜卷绕镀膜装置通过在线监控镀膜室的工作参数，实时调整镀膜室的进气量，因此生产控制程度较高，进而提高了生产效率。

附图说明

图1为一实施方式的透明导电膜卷绕镀膜装置的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施的限制。

请参阅图1，一实施方式的透明导电膜卷绕镀膜装置100包括依次相连的放卷室10、镀膜室20，收卷室30以及真空获得系统（图未示，安装于所述镀膜室20，用于获得镀膜所需的真空状态）。

放卷室10内设有放卷装置11，用于将基材12运送到镀膜室20内镀膜。基材12为柔性基材，例如PET（聚对苯二甲酸乙二醇酯）、PEN（聚萘二甲酸乙二醇酯）、PC（聚碳酸酯），PI（聚酰亚胺），PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）等。

放卷室10内设有多个进料导向辊22。多个进料导向辊22之间还设有用于加热基材12的加热源221。加热源221优选为红外加热器，其放置于基材12附近，用于去除附着于基材表面的水汽、有机物等。由于是真空放卷室，所以用红外加热器通过红外热辐射进行加热可以达到很好的去除PET表面水汽、有机物等吸附物质的效果。

镀膜室20内抽真空，并通过设于镀膜室20内壁上的进气管道21通入工艺气体，例如O₂、Ar、N₂、H₂O，H₂等。