[实用新型]一种采用方光斑刻蚀双面ITO玻璃的刻蚀装置有效
| 申请号： | 201220482449.2 | 申请日： | 2012-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN202825014U | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 魏志凌;宁军;高永强 | 申请（专利权）人： | 昆山思拓机器有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/40 | 分类号： | B23K26/40;B23K26/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215347 江苏省苏州市昆山*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 采用 光斑 刻蚀 双面 ito 玻璃 装置 | ||
1.一种采用方光斑刻蚀双面ITO玻璃的刻蚀装置，包括：
等功率分布整形光路机构，所述等功率分布整形光路机构包括光束整形部件,所述光束整形部件用于将高斯模式激光束转变为等功率分布激光束；
和支撑机构，所述支撑机构包括上支撑机构和下支撑机构，所述上下支撑机构各包含有所述等功率分布整形光路机构；
和激光器。
2.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述等功率分布整形光路机构还包括能量调节部件。
3.根据权利要求2所述的刻蚀装置，其特征在于，所述能量调节部件包括能量衰减器或者包括布儒斯特镜。
4.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述等功率分布整形光路机构还包括扫描部件。
5.根据权利要求4所述的刻蚀装置，其特征在于，所述扫描部件包括动态聚焦镜或振镜，或动态聚焦镜和振镜组合。
6.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述等功率分布整形光路机构包括安全部件。
7.根据权利要求6所述的刻蚀装置，其特征在于，所述安全部件为光闸。
8.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述等功率分布整形光路机构可以包括分光部件、反射部件，形成共用一台激光器的两套光路。
9.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述上支撑机构为龙门结构。
10.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述下支撑机构包括基座和工作台。
11.根据权利要求10所述的刻蚀装置，其特征在于，所述工作台包括X、Y向运动部件，所述X、Y向运动部件可载所述工作台作处于工作台平面上的运动。
12.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述激光器为紫外激光器，所述激光器频率为10~300KHz，功率为0.2~25W。
13.根据权利要求12所述的刻蚀装置，其特征在于，所述激光器为100KHz，功率：0.5W的紫外激光器。
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