[实用新型]金属有机物化学气相沉积设备及用于其中的隔离装置有效
申请号: | 201220456637.8 | 申请日: | 2012-09-10 |
公开(公告)号: | CN202830167U | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 陈凯辉;徐春阳;李淼;金文彬;吕青;王国斌;张伟 | 申请(专利权)人: | 中晟光电设备(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张静洁 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 有机物 化学 沉积 设备 用于 中的 隔离 装置 | ||
1.一种用于金属有机物化学气相沉积设备的隔离装置,其特征在于,包含:第一隔离部分和可与所述第一隔离部分相分离的第二隔离部分;
所述第一隔离部分包含:第一环形挡板(11),与所述第一环形挡板(11)相连接的支撑部(12),以及与所述支撑部(12)相连接的若干个连杆(13);
所述第二隔离部分包含:第二环形挡板(21);
所述第一隔离部分和所述第二隔离部分相结合时,所述第一环形挡板(11)围绕所述第二环形挡板(21),所述第二环形挡板(21)和所述支撑部(12)相接触。
2.如权利要求1所述的隔离装置,其特征在于,所述支撑部和所述第一环形挡板的底部、所述连杆的顶部分别相连接。
3.如权利要求1或2所述的隔离装置,其特征在于,所述的支撑部为环形的底板,该底板的内径小于第一环形挡板的内径。
4.如权利要求3所述的隔离装置,其特征在于,所述第二环形挡板和所述支撑部相接触具体为:所述的第二环形挡板和所述底板可分离地固定连接或者可分离地活动连接。
5.如权利要求3所述的隔离装置,其特征在于,所述第二环形挡板和所述支撑部相接触为:所述的第二环形挡板直接位于所述底板上。
6.如权利要求3所述的隔离装置,其特征在于,所述的第二环形挡板的内径大于或者等于该底板的内径。
7.如权利要求1所述的隔离装置,其特征在于,所述第一隔离部分由金属材料制成,所述第二隔离部分由金属材料或非金属材料制成。
8.如权利要求7所述的隔离装置,其特征在于,所述的第一隔离部分由不锈钢制成,第二隔离部分由钼或者石墨制成。
9.如权利要求7或8所述的隔离装置,其特征在于,所述第一环形挡板中设有用于容纳冷却液的内部空槽,所述支撑部中设有和该空槽连通的空腔,所述若干个连杆中至少有一个连杆设有和该空腔连通的用以供冷却液流动的通道。
10.一种金属有机物化学气相沉积设备,包括反应炉和位于该反应炉中的托盘,其特征在于,还包括如权利要求1至9任一项所述的隔离装置;
所述的隔离装置设置在反应炉的炉壁和托盘之间,且可在第一位置和第二位置之间上下移动,其中第一位置高于第二位置;
所述连杆、支撑部以及第一环形挡板在第一位置和第二位置之间一起上下移动时,所述支撑部带动所述第二环形挡板一起上下移动;在第一环形挡板位于第一位置时,第二环形挡板围绕托盘。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的