[实用新型]一种煎烤器

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种煎烤器。

背景技术

现有技术中，一般的煎烤器是在靠近烤盘的底部安装加热管，加热管是通过对烤盘底部局部加热再传递至整个烤盘的，热能利用率低，局部温度过高，加热效果欠佳，特别是针对较深的烤盘来说，因为仅在底部附近有加热管，所以，加热不均匀，食物无法均匀熟透。

有鉴于此，本发明人对煎烤器的加热结构加以改进，本案由此产生。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种煎烤器，以提升均匀加热效果。

为了达成上述目的，本实用新型的解决方案是：

一种煎烤器，包括烤盘和铆压在烤盘上的加热管，在烤盘的底部直接向内凹陷形成凹槽，加热管嵌置在凹槽中。

所述用于放置加热管的凹槽环绕在烤盘的底部四周。

所述烤盘沿凹槽外侧的整个壁面形成利于烤盘蓄热和热传导的加厚壁。

所述烤盘的底部至少一侧加厚形成用于放置温控器的安装部。

所述烤盘分上烤盘和下烤盘，下烤盘的深度大于25mm。

采用上述结构后，本实用新型因为将加热管嵌置在向内凹陷的凹槽中，加热管直接与烤盘四周充分接触，可以更好地对烤盘整体加热，热量利用率大大提高，加热效果好，特别针对较深烤盘的加热效果更好，满足了煎烤食物能均匀加热至熟透，实现煎烤四周温度均匀化加热的效果，克服了传统较深烤盘加热不均匀的弊端。

本实用新型用途广泛，适用于烹饪馅饼类食品，深度大于一般馅饼机（深度大于25mm），其汤汁更丰富。

以下结合附图及具体实施例对本实用新型做进一步详述。

附图说明

图1是本实用新型的下烤盘立体示意图；

图2是本实用新型的上下烤盘立体分解图；

图3是本实用新型的下烤盘俯视图；

图4是本实用新型的纵向剖视图。

标号说明

下烤盘1        凹槽11         加厚壁12

安装部13       加热管2        上烤盘3

凹槽31         加热管4。

具体实施方式

如图1至图4所示，本实用新型揭示的一种煎烤器，包括烤盘（分为上烤盘3和下烤盘1）和铆压在烤盘上的加热管2、4，在上烤盘3和下烤盘1的底部直接向内凹陷形成凹槽31和11。加热管2和4嵌置在凹槽31和11中。此实施例进一步将凹槽31和11环绕在上烤盘3和下烤盘1的底部四周，使加热管2和4通过四周对上烤盘3和下烤盘1进行加热。

为了方便放置温控器，此实施例在下烤盘1的底部至少一侧加厚形成安装部13，此加厚的安装部13属于温度不敏感区域，适用于放置温控器。另外，此实施例在下烤盘1沿凹槽11外侧的整个壁面形成加厚壁12，以利于烤盘蓄热和热传导。

其中，下烤盘1的深度都大于25mm。上烤盘3容槽深度较浅，在上烤盘3的底部直接向内凹陷形成凹槽31，加热管4嵌置在凹槽31中，设在上烤盘3背面的加热管4直接横跨两个容槽中间即可加热均匀。

本实用新型与传统结构相比，加热管2直接与烤盘1充分接触，可以更好地对烤盘1整体加热，加热效果好，特别针对较深烤盘1的加热效果更好，满足了煎烤食物能均匀加热至熟透，实现煎烤四周温度均匀化加热的效果，克服了传统较深烤盘加热不均匀的弊端。

以上所述仅为本实用新型的一个实施例，并非对本案设计的限制，凡依本案的设计关键所做的等同变化，均落入本案的保护范围。