[实用新型]研磨垫及研磨装置有效
申请号: | 201220413058.5 | 申请日: | 2012-08-17 |
公开(公告)号: | CN202702002U | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
发明(设计)人: | 唐强;洪中山 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B37/26 | 分类号: | B24B37/26;H01L21/304 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 装置 | ||
1.一种研磨垫,其特征在于,所述研磨垫包括内部区域和外部区域,所述外部区域位于所述内部区域的外侧,所述内部区域内设有若干同心的圆形沟槽,所述若干同心的圆形沟槽以研磨垫的中心为圆心,所述外部区域间隔设置若干由内向外发散的导流槽。
2.根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述导流槽的内侧端连接至所述内部区域中最外侧的圆形沟槽,所述导流槽的外侧端连接至外部区域的外边缘。
3.根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述导流槽包括第一槽和第二槽,所述第一槽和所述第二槽间隔设置,所述第一槽和第二槽的内侧端分别连接至所述内部区域中最外侧的圆形沟槽,所述第一槽的外侧端连接至所述研磨垫的边缘,所述第二槽的长度小于所述第一槽的长度。
4.根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述导流槽是曲线槽,所述曲线槽的弯曲方向和研磨垫的旋转方向相对应。
5.根据权利要求4所述的研磨垫,其特征在于,所述导流槽呈抛物线型。
6.根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述导流槽是直线槽。
7.根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述内部区域中最外侧的圆形沟槽距离研磨垫的中心距离是研磨垫的半径长度的2/3-3/4倍。
8.一种研磨装置,包括研磨头、研磨垫整理器、研磨平台与研磨垫,所述研磨垫铺设于所述研磨平台上,所述研磨头与所述研磨垫整理器分别设置于所述研磨垫上,其特征在于,所述研磨垫采用如权利要1~7中任意一项所述的研磨垫。
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