[实用新型]一种方便清理的滚轮外罩有效
申请号: | 201220398847.6 | 申请日: | 2012-08-14 |
公开(公告)号: | CN202705471U | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 王煦丽 |
主分类号: | C23C16/56 | 分类号: | C23C16/56 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 310027 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 方便 清理 滚轮 外罩 | ||
技术领域
本实用新型属于传送沉积系统中的基材领域,尤其涉及一种方便清理的滚轮外罩。
背景技术
薄膜太阳电池可以用价格低廉的玻璃、塑料、陶瓷、石墨、金属片等不同材料做基板,又具有可挠性可以制作成非平面构造,可与建筑物结合或是变成建筑体的一部份,应用非常广泛。在薄膜太阳电池制造上,常在—CVD系统内进行基材上的薄膜层的制程。反应物进入制程区,待处理(例如涂层)的基板被置于热板上加热到合适沉积的温度环境。至少部分的化学反应生成物会沉积在基板上,残余物会通过排气设备排除制程区。
在传送系统中,基板通过下方的滚轮组进行水平传送。当这些滚轮暴露在制程室里时,滚轮会被制程室内气体污染。当滚轮传送下一块基板时,下一块的基板背面会被滚轮污染。同时滚轮上的污染物堆积到一定量会容易脱落到制程室,影响制程反应效果。中国专利CN 201485502U公布了一种外罩装置,但其结构复杂,污染物堆积到一定量后需要繁琐的拆卸工作,清理起来十分不方便,耗费大量精力。
因此,急需一种在改善制程效果的同时,结构合理、清理起来方便快捷的外罩装置。
发明内容
本实用新型的目的是针对上述提到的问题,提供一种方便清理的外罩装置,该外罩除了能够改善制程效果以外,结构简单、拆卸方便、便于清理和维护。
本实用新型的技术方案是:
本实用新型包括顶板、凸出板、底罩、凸出底仓和顶板上的滚轮导轨;
本实用新型的顶板固定在底罩上,顶板与底罩之间的空腔中设置与转动轴相连的滚轮,顶盖上的滚轮导轨与滚轮相连;凸出板连接在顶板的末端上方,凸出底仓连接在底罩的末端。
所述顶板是长方体的。
所述凸出板是长方体的,被设置成可以至少部分保护滚轮,以免受到沉积系统内的物质污染。
所述凸出底仓被设置可以至少部分保护沉积系统,以免滚轮上的物质污染沉积系统。
本实用新型有益效果如下:
本实用新型除了能够至少部分保护滚轮不受到沉积的影响,还至少部分保护沉积系统不被滚轮上的物质污染,有效的优化制程效果。同时本实用新型设计简单、结构合理、拆卸清理起来十分方便,使用起来节省大量精力。
附图说明
图1为滚轮组上传送基板的部分沉积系统的上视图。
图2为本实用新型的传送基材侧视图。
图3为本实用新型的立体结构侧视图。
图中,顶板 1、底罩2、凸出板3、凸出底仓4、滚轮5、滚轮导轨6、转动轴7、基板8。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步的详细说明。
如图1所示为在复数个滚轮5上传递基板8的部分沉积系统。滚轮5在传动轴7促动下,从基板8较低表面的背端接触。如出现目标位置,基材支撑体中的支撑物(如加热板)会从较低位提起,从滚轮5上提起基板8。滚轮5会从基板8收回,以避免影响随后的处理步骤。当沉积过程结束后,滚轮5会返回原工作位置,通过降低基材支撑物将基板8置放回滚轮5上,并传送基材8。
如图2显示更多细节,滚轮外罩包括顶板1、凸出板3、底罩2、凸出底仓4和顶板上的滚轮导轨6,顶板1固定在底2罩上,顶板1与底罩2之间的空腔中设置与转动轴7相连的滚轮5,顶盖1上的滚轮导轨6与滚轮5相连;凸出板3连接在顶板1的末端上方,凸出底仓4连接在底罩2的末端。基板8与安装在外罩内的滚轮5相接触,滚轮5转动可促使基板8的传动。在滚轮转动的过程中,部分滚轮上的物质会落在凸出底仓5内。
如图3所示,当滚轮5从基材8处收回,沉积过程开始,沉积物质可部分落在凸出板3上,凸出板3可至少部分保护滚轮5。
本实用新型由于设有凸出板和凸出底仓,在制程过程中能至少部分保护滚轮不受制程系统的污染,有效的优化了制程效果。同时本实验新型结构简单,平时正常清理时只需要用吸尘器对其进行清理即可,节省使用者的精力和时间。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的