[实用新型]激光反射镜有效

专利信息
申请号: 201220397032.6 申请日: 2012-08-06
公开(公告)号: CN202815247U 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 卜轶坤;关振奋;吴冠伟;张慎兴 申请(专利权)人: 晋谱(福建)光电科技有限公司
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08;G02B1/10;B32B9/04
代理公司: 福州市鼓楼区博深专利代理事务所(普通合伙) 35214 代理人: 林志峥
地址: 351115 福建省莆*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 激光 反射
【权利要求书】:

1.一种激光反射镜,包括基底层,其特征在于,所述基底层上依次设有由多层四分之一光学厚度薄膜层构成的高反射膜堆、由多层二分之一光学厚度薄膜层构成的连接膜堆、由多层四分之一光学厚度薄膜层构成的激光抵抗膜堆和由多层二分之一光学厚度薄膜层构成的保护膜堆。

2.根据权利要求1所述的激光反射镜,其特征在于,所述高反射膜堆由高折射率薄膜层和低折射率薄膜层依次交替叠加组成,所述高折射率薄膜层是TiO2薄膜层、Nb2O5薄膜层和Ta2O5薄膜层中的一种,所述低折射率薄膜层是SiO2薄膜层。

3.根据权利要求2所述的激光反射镜,其特征在于,所述高反射膜堆最外侧与所述连接膜堆贴合的薄膜层为SiO2薄膜层。

4.根据权利要求1所述的激光反射镜,其特征在于,所述激光抵抗膜堆由具有高损伤阀值的薄膜层和低折射率薄膜层依次交替叠加组成,所述有高损伤阀值的薄膜层是AL2O3薄膜层、Y2O3薄膜层、HfO2薄膜层中的一种,所述低折射率薄膜层为SiO2薄膜层。

5.根据权利要求4所述的激光反射镜,其特征在于,所述激光抵抗膜堆设有奇数层的薄膜层。

6.根据权利要求1-5任一项所述的激光反射镜,其特征在于,所述连接膜堆是由SiO2薄膜层组成。

7.根据权利要求1-5任一项所述的激光反射镜,其特征在于,所述保护膜堆是由SiO2薄膜层组成。 

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于晋谱(福建)光电科技有限公司,未经晋谱(福建)光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220397032.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top