[实用新型]一种器件分割定位装置有效

专利信息
申请号: 201220390590.X 申请日: 2012-08-08
公开(公告)号: CN202805288U 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 徐成志 申请(专利权)人: 成都科兴密封技术有限公司
主分类号: B26D7/01 分类号: B26D7/01
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地址: 610000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 器件 分割 定位 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种定位装置,特别是涉及一种器件分割定位装置。 

背景技术

小型微型器件因其尺寸的特点,其生产工艺中采用众多单个器件有规则成矩阵形式分布在大尺寸基片或是载片上,完成一定的先序工艺后再进行分割。元件分割时定位是否准确,会影响到元件的性能和形状,使元件的后续使用问题增加。目前,有的片式元件基片预先加工形成分割凹槽,分割工艺时直接采用折断的方式;有的采用预先加工形成分割线,分割工艺时于分割线处分割,该工艺不仅需要准确定位,也可能出现因先序工艺的偏差而影响分割后产品的性能,而且,对每一个待分割基片都需要进行定位,降低了效率。 

因此,为改善片式元件在分割前的定位不准确,效率不高的情况,需要一种更高效、可靠的分割定位方式。 

发明内容

本实用新型的目的是为了解决上述问题而提供一种便捷、灵活、准确、高效率的分割定位装置。 

为实现上述目的,本实用新型采用了以下技术方案: 

本实用新型所述的一种器件分割定位装置,包括载台、透射光源、CCD图像采集系统和螺栓定位装置,所述透射光源设置在所述载台的下方,所述CCD图像采集系统设置在所述载台的上方,所述CCD图像采集系统包括照明光源,所述螺栓定位装置包括可动螺栓和滑动槽,所述可动螺栓包括第一可动螺栓、第二可动螺栓和第三可动螺栓。

在滑动槽调节可动螺栓的位置对不同尺寸的待分割基片实现定位,结合CCD图像采集系统和透射光源,实现对待分割基片的准确定位,应用载台上螺栓定位装置使同一系列的待分割基片固定于同一位置,在后续的分割中直接使用已经形成的定位参数。 

作为最佳方案,所述第一可动螺栓设置有锁定装置,所述第二可动螺栓设置有锁定装置。 

具体地,所述滑动槽设置在所述载台上。 

本实用新型的有益效果是: 

本实用新型载台上设置有固定分割基片的螺栓定位装置,可动螺栓在滑动槽内移动,对不同尺寸的待分割基片进行定位,经过一次定位后,对可动螺栓的锁定使定位后的文件数据对同一标准的待分割基片可以重复使用,提高了效率。

附图说明

图1是本实用新型的立体图; 

图2是本实用新型中载台的俯视图;

图3是本实用新型中载台上放置待分割基片后的俯视图;

图4是本实用新型中待分割基片的局部结构图。

图中:1-载台,2-待切割基片,3-透射光源,4-照明光源,5-CCD图像采集系统,11-分割基片放置位置,12-第一可动螺栓,13-第二可动螺栓,14-第三可动螺栓,15-滑动槽,21-定位孔,22-分割线,23-元件间隙,24-金属材料覆盖层。 

具体实施方式

下面结合附图及具体实施例对本实用新型作进一步的详细说明: 

如图1所示,本实用新型所述的一种器件分割定位装置,包括载台1,待分割基片2放置载台1上,待分割基片2由第一可动螺栓12、第二可动螺栓13和第三可动螺栓14固定,透射光源3设置在载台1的下方,CCD图像采集系统5设置在载台1的上方,照明光源4设置在CCD图像采集系统5上。如图4所示,待分割基片2设置有预先加工形成的纵向分割线22和需要分割但无分割线的横向分割区域元件间隙23。如图2所示,本实用新型的器件分割定位装置工作前,第一可动螺栓12位于滑动槽15的最下端,第二可动螺栓13位于滑动槽15的最左端,第三可动螺栓14分别位于滑动槽15的最上端和最右端。

如图3所示,根据待分割基片2的实际尺寸,在滑动槽15内移动第一可动螺栓12和第二可动螺栓13并锁定二者的位置,将待分割基片2放置于分割基片放置位置11并靠近第一可动螺栓12和第二可动螺栓13,第三可动螺栓14在滑动槽15内移动与第一可动螺栓12和第二可动螺栓13实现对待分割基片2的定位固定,调节照明光源4至需要的亮度,根据输入文件数据识别分割基片2的定位孔21,完成定位孔21的识别后,根据输入文件数据实现分割线22的路径分割,打开透射光源3,CCD图像采集系统5获取到透射光源3通过待分割基片2形成图像,识别出金属覆盖层24和元件间隙23,元件间隙23的中心位置即为横向分割路径。在滑动槽15内调节第一可动螺栓12、第二可动螺栓13和第三可动螺栓14,实现对不同尺寸待分割基片的固定定位,锁定第一可动螺栓12和第二可动螺栓13的位置,定位后的数据文件可以重复使用实现对同一种标准待分割基片的准确定位。 

上述实施例仅为本实用新型的一种实施例,是说明性的而不是限制性的,还有许多变化均属于本实用新型的技术方案,因此,在不脱离本实用新型构思下所做是改变和修改,均在本实用新型的保护范围之内。 

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