[实用新型]离子溅射镀膜装置

权利要求书

1.一种离子溅射镀膜装置，其特征在于，包括真空镀膜室及位于所述真空镀膜室一侧的用于发射溅射离子束的等离子发射装置，所述真空镀膜室的内空间容置有的位于真空镀膜室顶部的基板、位于真空镀膜室底部的托盘、位于所述托盘上的靶材及位于托盘一侧的辅助离子发射装置，所述辅助离子发射装置的发射端口正对于基板板面，所述等离子发射装置的端口与真空镀膜的内空间相连通，且等离子发射装置的端口绕有发射电磁线圈。

2.根据权利要求1所述的离子溅射镀膜装置，其特征在于，还包括偏转电磁线圈，所述偏转电磁线圈绕于所述真空镀膜室的底部外侧的突起，且所述偏转电磁线圈处于所述托盘的下部。

3.根据权利要求1所述的离子溅射镀膜装置，其特征在于，还包括旋转架，所述基板通过旋转架悬挂于真空镀膜室顶部。

4.根据权利要求1所述的离子溅射镀膜装置，其特征在于，所述托盘为可旋转的转盘，所述靶材的数量为4-8块，所述靶材均匀地固定于转盘上。

5.根据权利要求1-4任一项所述的离子溅射镀膜装置，其特征在于，所述靶材的形状为圆形或矩形。