[实用新型]一种待加工孔的毛坯件有效

专利信息
申请号: 201220382055.X 申请日: 2012-08-02
公开(公告)号: CN202667552U 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 高勇;梁立峰;贺燕铭;马童立;李红强;周启顺;赵锦伦 申请(专利权)人: 北京汽车动力总成有限公司
主分类号: B22C9/02 分类号: B22C9/02;B22C9/22
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;黄灿
地址: 101108 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 加工 毛坯
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种待加工孔的毛坯件,尤其涉及一种在加工铸造孔时,可防止加工残留的毛坯件,属于加工铸造零件技术领域。

背景技术

一般,毛坯件加工较大的孔时,首先毛坯件在铸造时铸造出铸造孔,然后对铸造孔进行扩孔加工,以得到较大的孔。铸造孔进行扩孔加工时,易造成较大的加工残留物。对于具有腔体的毛坯件来说,较大的加工残留物会进入腔体内,而不易从铸造孔内清理出来。

实用新型内容

为了解决现有技术中在毛坯件上对铸造孔加工时,易产生较大加工残留物的问题,本实用新型提供了一种待加工孔的毛坯件,其结构简单,不易产生较大的加工残留物。

本实用新型所提供的技术方案为:

一种待加工孔的毛坯件,包括:

用于扩孔的铸造孔;以及,

设置于所述铸造孔周边的凹槽结构。

进一步的,所述凹槽结构设置于所述铸造孔的边缘处,并与所述铸造孔相贯通。

进一步的,所述铸造孔的周边为凸台结构,所述凸台结构的表面具有向下凹陷形成的所述凹槽结构。

进一步的,所述凹槽结构为自所述铸造孔的边缘向所述凸台结构的边缘贯通的直通槽。

进一步的,所述凹槽结构数量为多个。

进一步的,多个所述凹槽结构呈放射状分布在所述铸造孔的周边边缘处。

进一步的,所述铸造孔扩孔后得到的孔的直径与所述铸造孔的直径之差小于等于所述凹槽结构的长度。

本实用新型的有益效果为:

本实用新型的待加工孔的毛坯件通过在铸造孔的周边增设凹槽结构,在对铸造孔进行扩孔加工时,防止产生体积较大的加工残留物,从而有效减小了在加工孔时所产生的加工残留物的体积,从而对于有腔体的毛坯件来说,容易将加工残留物清理出腔体外。

附图说明

图1表示本实用新型的待加工孔的毛坯件第一种实施例的结构示意图;

图2表示本实用新型的待加工孔的毛坯件第二种实施例的结构示意图;

图3表示第一种实施例中的待加工孔的毛坯件在加工孔后的结构示意图;

图4表示第二种实施例中的待加工孔的毛坯件在加工孔后的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的原理和特征进行描述,所举实例只用于解释本实用新型,并非用于限定本实用新型的范围。

如图1至图4所示,本实用新型提供了一种待加工孔的毛坯件,该毛坯件10(图中仅示出毛坯件的一部分)上铸造有用于扩孔的铸造孔100,在该铸造孔100的周边设置有防止加工残留的凹槽结构200。

通过在毛坯件10的铸造孔100周边设置凹槽结构200,在对铸造孔100进行扩孔加工过程中,由钻头等螺旋切割铸造孔100周边而形成的加工残留物会在凹槽结构200处被打断,而不能形成连续的体积较大的加工残留物(碎屑),从而有效减小加工残留物的体积,对于具有腔体的毛坯件而言,即可顺利从加工后得到的孔内将体积较小的加工残留物清理出来。

如图1所示,毛坯件10上的铸造孔100周边可以为凸台结构300,也就是说,铸造孔100铸造于凸台结构300上,凸台结构300的表面设置向下凹陷形成的凹槽结构200,且该凹槽结构200可以是自铸造孔100边缘向凸台结构300边缘贯通的直通槽。直通槽的数量可以为一个或两个或两个以上。图1所示的直通槽数量为四个,且四个直通槽呈放射状分布于铸造孔100的周边边缘处。优选的,如图1和图3所示,每一直通槽的长度最好大于或等于铸造孔100与扩孔后形成的孔100’的直径之差,以保证在扩孔过程中始终不存在较大体积的加工残留物。

当然可以理解的是,凸台结构300上的凹槽结构200也可以是不贯通铸造孔边缘与凸台结构300边缘的凹槽形式。

如图2所示,毛坯件10上的铸造孔100周边也可以与毛坯件10其他区域在同一平面,在该平面上可以直接加工凹陷形成的凹槽结构。如图2所示的凹槽结构200数量为四个,且四个凹槽结构200呈放射状均匀分布于铸造孔100的周边边缘处。如图2和4所示,优选的,每一直通槽的长度最好大于或等于铸造孔100与扩孔后形成的孔100’的直径之差,以保证不存在较大体积的加工残留物。

此外,需要说明的是,凹槽结构最好是设置于铸造孔100的底部,以满足毛坯件10加工完成后的产品美观等要求。

以上所述是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型所述原理的前提下,还可以作出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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