[实用新型]一种新型转印板有效

专利信息
申请号: 201220380346.5 申请日: 2012-08-01
公开(公告)号: CN203012303U 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 邵勇 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;B41F16/00
代理公司: 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 代理人: 王黎延;张振伟
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 新型 转印板
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及薄膜场效应晶体管(TFT)-液晶显示器(LCD)工艺中的聚酰亚胺(PI)液转印技术,尤其涉及一种新型转印(APR)板。 

背景技术

在现有TFT-LCD的制作工艺中,为了得到亮度均匀、对比度高、以及响应速度快的产品,必须使液晶盒内的液晶分子沿着某一特定的方向排列,为此必须在氧化铟锡(ITO)玻璃基板上形成一层均匀的PI液,制作工艺中所使用的涂布装置如图1所示,工艺流程如下:首先,将PI液通过分液器(Dispenser)3滴加到网纹辊(Anilox Roll)1与刀辊(Blade Roll)2接触的位置,刀辊(Blade Roll)2把网纹辊(Anilox Roll)1上的PI液涂布均匀,网纹辊(Anilox Roll)1与挂有形成图形的APR板4的版胴7相接触,将PI液转印到APR板4上,最后通过APR板4把PI液印刷到玻璃基板5的表面形成取向膜。如图2所示,所述APR板4由APR层9和基膜10两部分构成,APR层9较厚的位置为APR板的活性区域11。 

在实际生产过程中,APR板与玻璃基板之间的作用力,也就是涂布压力作用在APR板的末端,使得PI液向玻璃基板的四周扩散,导致APR板边缘的PI液以过于饱和的状态印刷到玻璃基板活性区域(Active area)的四周,导致PI膜的膜质不均匀,且过厚,产生光晕区域(Haro area)。所述玻璃基板的活性区域(Active area)为图3中15所示,所述光晕区域(Haro area)为图3中14所示,光晕区域(Haro area)14的PI膜厚度要大于活性区域(Active area)15的PI膜厚度。因光晕区域(Haro area)的液晶不能正常取向,所以光晕区域(Haro area)不能出现在玻璃基板的活性区域(Active Area)内。此外,光晕区域(Haro  area)还会引起液晶盒间隙增加,导致异物进入,影响液晶显示器的品质。 

为了解决上述问题,目前工业上主要通过扩大PI膜的边缘余量(Edge Margin)来控制光晕区域(Haro area)对液晶显示器品质的影响,所述边缘余量(Edge Margin)如图3中a所示,即活性区域(Active area)15到PI膜边缘的距离。事实上,光晕区域(Haro area)的尺寸并没有减小,只是远离了活性区域(Active area)。这样,又会引起PI液与密封(Seal)胶的交叠,特别是在生产小尺寸产品的时候该问题尤为突出,严重影响液晶的显示品质。 

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型的主要目的在于提供一种新型APR板,从而解决目前PI膜的光晕区域(Haro area)明显、PI膜边缘与Seal胶交叠所引起的显示不良的问题。 

为达到上述目的,本实用新型的技术方案是这样实现的: 

一种新型转印板,包括转印层(9)和基膜(10);所述转印板活性区域(11)的边缘设置为圆弧形。 

上述方案中,所述圆弧的终点d位于转印板活性区域的边缘,终点d处的切线与转印板平面之间成一夹角Φ。 

上述方案中,所述夹角Φ设置为:30°≤Φ≤60°。 

上述方案中,所述圆弧区域中的网点比非圆弧处理区域中的网点排列稀疏。 

本实用新型提供的新型APR板,对APR板活性区域的边缘进行圆弧处理,应用这种新型的APR板转印PI液时,因为APR板末端过于饱和的PI液被吸附在凹槽内,而这些凹槽与玻璃基板的距离比非圆弧处理区域与玻璃基板的距离大一些,所以APR板末端与玻璃基板之间的涂布压力就小一些,因此,本实用新型的APR板在转印PI液时,在玻璃基板上几乎不会形成光晕区域(Haro area),也就是说,光晕区域(Haro area)的尺寸将大幅降低,应用这种新型的APR板在转印PI液的过程中,即便在APR板的末端有较强的涂布压力,也能在玻璃基板上形成厚度均匀的取向膜,提高了PI液的涂覆精度。 

另外,因本实用新型APR板末端与玻璃基板之间的涂布压力相对较小,所以本实用新型在玻璃基板上所形成的边缘余量(Edge Margin)比现有的边缘余量(Edge Margin)小,可在一定程度上节省PI液的用量。 

此外,本实用新型圆弧处理区中所设置的网点比非圆弧处理区中的网点稀疏,所以圆弧处理区可吸附更多的PI液,同样降低光晕区域(Haro area)形成的可能性。 

附图说明

图1为现有TFT-LCD制作工艺中所使用的涂布装置结构示意图; 

图2为现有APR板的剖视图和平面图; 

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司,未经北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220380346.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top