[实用新型]一种高强度钴靶有效
| 申请号： | 201220366708.5 | 申请日： | 2012-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN202825019U | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 徐学礼;何金江;李勇军;范亮;吕保国;尚再艳;顾新福;黄志勇;蒋宇晖 | 申请（专利权）人： | 北京有色金属研究总院;有研亿金新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B23K33/00 | 分类号： | B23K33/00 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人： | 薄观玖 |
| 地址： | 100088 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 强度 | ||
【权利要求书】：
1.一种高强度钴靶，其特征在于：所述高强度钴靶通过在靶材（1）与背板（3）间加入中间层（2），分别进行焊接而成，靶材（1）与背板（3）焊接面上分别设置一系列凹槽。
2.根据权利要求1所述的一种高强度钴靶，其特征在于：所述靶材（1）的材质为钴金属或钴基合金材料。
3.根据权利要求1所述的一种高强度钴靶，其特征在于：所述凹槽呈同心环状或螺旋状排列。
4.根据权利要求1所述的一种高强度钴靶，其特征在于：所述凹槽的截面为V形、倒梯形、圆弧形或矩形。
5.根据权利要求1所述的一种高强度钴靶，其特征在于：所述凹槽的深度为0.01 mm~5 mm。
6.根据权利要求1所述的一种高强度钴靶，其特征在于：所述中间层（2）的硬度分别低于靶材（1）和背板（3）的硬度。
7.根据权利要求1所述的一种高强度钴靶，其特征在于：所述中间层（2）的材质为银金属材料、锌金属材料、铝金属材料或镁铝合金材料。
8.根据权利要求1所述的一种高强度钴靶，其特征在于：所述中间层（2）厚度大于靶材（1）和背板（3）焊接面上的凹槽深度之和。
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