[实用新型]一种偏光片剥离装置有效

专利信息
申请号: 201220361712.2 申请日: 2012-07-24
公开(公告)号: CN202782096U 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 崔子巍;吴昊;赵秀强;邢红燕 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: B32B38/10 分类号: B32B38/10;G02F1/1335
代理公司: 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 代理人: 程立民;张颖玲
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 偏光 剥离 装置
【权利要求书】:

1.一种偏光片剥离装置,其特征在于,该装置包括:框架、滚轮、滚轮外壳和手柄;

框架顶部具有滑道;

滚轮外壳用于悬挂滚轮;

滚轮位于滚轮外壳内,与滚轮外壳轴向连接;

手柄通过框架顶部的滑道与滚轮外壳相连。

2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,

所述滚轮外壳包括两个侧面和一个顶面,顶面上部与手柄连接,顶面下部与滚轮轴向连接。

3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述滚轮包括:

用于夹住偏光片的滚轮夹缝;

用于向滚轮夹缝施加夹合力,使滚轮夹缝夹住偏光片的夹合装置。

4.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,所述夹合装置包括:

通过弹性部件与滚轮夹缝的一侧连接的转轴;

轨道;

用于固定转轴的闭锁槽。

5.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,

在滚轮的轴心与滚轮外壳连接的壳体边缘设置有用于切割剥离下来的偏光片的切割刀片。

6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述装置还包括:

位于框架内侧面的离子发生器。

7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述装置还包括用于承载和吸附面板的吸附平台。

8.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述框架沿吸附平台的对角线设置。

9.根据权利要求7或8所述的装置,其特征在于,所述装置还包括吸气管,所述吸气管位于吸附平台上,所述吸附平台表面上设置有吸附孔,所述吸附孔与吸气管连接并相通。

10.根据权利要求9所述的装置,其特征在于,所述吸附孔均匀分布在吸附平台表面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司,未经北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220361712.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top