[实用新型]一种VCM弹片有效

专利信息
申请号: 201220336969.2 申请日: 2012-07-12
公开(公告)号: CN202756505U 公开(公告)日: 2013-02-27
发明(设计)人: 康亮 申请(专利权)人: 天水华洋电子科技股份有限公司
主分类号: F16F1/18 分类号: F16F1/18
代理公司: 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 代理人: 谢德珍
地址: 741000 甘肃省*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要:
搜索关键词: 一种 vcm 弹片
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及自动对焦马达领域,具体涉及为一种VCM弹片。

背景技术

音圈马达(Voice Coil Motor)简称VCM,具有体积小、用电量少及价格低廉等优点,适合作为电子产品(如数码相机、手机、数码摄像机等)中的致动器(请参见Design of a voice coil motor used in the focusing system of a digital video camera,Magnetics,IEEE Transactions on Volume 41,Issue 10,Oct. 2005 Page(s):3979-3981)。

随着电子产品应用技术的日新月异,随之用户对电子产品中自动对焦的要求也越来越高,VCM弹片在自动对焦中起着至关重要的作用。同时VCM弹片对加工精度要求很高,VCM弹片弹丝的尺寸公差越小,自动对焦的效果越好。因此如何提高VCM弹片的质量已经成为本领域技术人员亟待解决的重要问题。

实用新型内容

本实用新型所解决的技术问题在于提供一种VCM弹片,本实用新型所解决的技术问题采用以下技术方案来实现:

一种VCM弹片,弹片具有一个平板,平板的几何中心开设有一通孔,通孔使得穿过镜片的光线能通过弹片;平板具有一个围绕通孔且远离通孔的外框和一个围绕通孔且靠近通孔的内框及位于外框与内框之间的弹力部;外框四个边角分别设有定位孔,与内框接触的部位设为波浪形;外框沿平板中心线纵向一分为二呈对称分离状态;内框沿平板中心线横向开设有两个朝向通孔且与通孔连接的凸口,沿平板中心线纵向开设有两个朝向通孔且与通孔连接的短凸口及两个朝向外框凹进同时朝向通孔且与通孔连接的长凸口,内框与沿平板中心线纵向偏离一分为二呈反对称分离状态,同为一侧分离的内框和外框相互连接。

在本实用新型中,采用光化学蚀刻技术生产VCM弹片,光化学蚀刻更能保证VCM弹片平整度;通过更改光化学蚀刻的蚀刻液化学成分和蚀刻设备的结构,实现更高的加工精度。

在本实用新型中,VCM弹片采用MX215,是高镍含锡铜合金,含有Ag、Pt、Au、Ni、Cu等贵金属的五元合金,是最优良的电接点材料,具有导电能力强,接触电阻稳定、耐腐蚀、高可靠性能,弹性能力强。

在本实用新型中,采用光化学蚀刻技术生产VCM弹片,光化学蚀刻技术的核心是对蚀刻液成分的配比、调整和控制,通过动态加入一些化学药品来调整蚀刻液中消耗掉的的Fe3+,控制蚀刻速度恒定不变,保证了蚀刻零件的更高尺寸精度。

在本实用新型中,采用光化学蚀刻技术生产VCM弹片,在传统的曝光系统上增加滤光系统,使和感光膜发生反应的光为平行光;同时将原蚀刻机喷淋系统喷嘴的排列改为交叉排列,喷杆的角度从90度变为60度,并改为单管控制压力;增加了蚀刻液在设备中的循环回流系统。

有益效果:本实用新型采用高镍含锡铜合金材料制成,具有导电能力强,接触电阻稳定、耐腐蚀、高可靠性能,弹性能力超过铍青铜;在生产过程中采用光化学蚀刻技术保证了VCM弹片平整度;通过更改光化学蚀刻的蚀刻液化学成分和蚀刻设备的结构,实现更高的加工精度;从而提高了VCM弹片的质量。

附图说明

图1 为本实用新型较佳实施例的结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本实用新型。

参见图1的一种VCM弹片,弹片具有一个平板,平板的几何中心开设有一通孔1,通孔使得穿过镜片的光线能通过弹片;平板具有一个围绕通孔且远离通孔的外框2和一个围绕通孔且靠近通孔的内框3及位于外框2与内框3之间的弹力部。外框2方形结构,其四个边角分别设有定位孔4,与内框3接触的部位设为波浪形,外框2沿平板中心线纵向一分为二呈对称分离状态;内框3沿平板中心线横向开设有两个朝向通孔且与通孔连接的凸口,沿平板中心线纵向开设有两个朝向通孔且与通孔连接的短凸口及两个朝向外框凹进同时朝向通孔且与通孔连接的长凸口,内框3与沿平板中心线纵向偏离一分为二呈反对称分离状态,同为一侧分离的内框3和外框2相互连接。

在本实施例中,外框2的形状也可以为方形、圆形、三角形、多边形等其他几何形状。

在本实施例中,采用光化学蚀刻技术生产VCM弹片,光化学蚀刻更能保证VCM弹片平整度;通过更改光化学蚀刻的蚀刻液化学成分和蚀刻设备的结构,实现更高的加工精度。

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