[实用新型]大气压等离子处理系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及在大气压下对被处理物实施等离子处理的大气压等离子处理系统。 

背景技术

一直以来，利用减压下产生的等离子体，对基板等被处理物进行表面处理。具体而言，在减压的腔室内，使气体发生等离子化，利用该等离子化的气体，进行被处理物的表面改性、表面清洗、形成薄膜等处理。在减压下的等离子处理中，为了对腔室内进行减压，而需要真空泵等，而且，为了维持减压状态，而需要对腔室进行密闭。因此，在减压下用于进行等离子处理的系统具有大型化且成本升高的倾向。而且，需要腔室的密闭工序、减压工序等，因此减压下的等离子处理所需的时间变得比较长。鉴于这种情况，近年来，在大气压下对被处理物实施等离子处理的大气压等离子处理系统的开发不断发展。在下述专利文献中示出了大气压等离子处理系统的一例。 

在先技术文献 

专利文献 

专利文献1：日本特开2006-140051号公报 

专利文献2：日本特开2006-331736号公报 

在基于等离子化的气体的处理中存在表面改性、表面清洗、形成薄膜等各个种类的处理，有时连续进行各种等离子处理。具体而言，例如，进行作为反应气体使氧等离子化而将基板表面的有机物除去的等离子处理，在除去有机物后的基板表面，进行通过用于形成薄膜的反应气体的等离子化而形成薄膜的等离子处理。并且，有时为了在所 形成的薄膜上形成与该薄膜不同的薄膜，进行利用其他用于形成薄膜的反应气体的等离子处理。在减压下进行这多个等离子处理时，对各处理需要反复进行密闭工序及减压工序，总处理时间可能相当长。另一方面，在通过大气压等离子处理系统来进行多个等离子处理时，无需进行各处理的密闭工序及减压工序，因此能够相当缩短处理时间。 

在基于大气压等离子处理系统的多个等离子处理中，为了处理时间的进一步缩短，考虑将进行各处理的多个腔室配置成一列，并将相邻的两个腔室连通。但是，在将相邻的两个腔室连通时，需要避免各腔室内使用的反应气体彼此混合。在上述专利文献中记载了用于如下目的的技术，即：通过气帘将被处理物的向系统内的搬入口及被处理物的从系统内的搬出口分隔成系统的内部和外部，由此抑制反应气体从腔室内的流出、外部空气向腔室内的流入等。然而，在上述专利文献中，未考虑使两个腔室连通的情况，且并未考虑到防止两个腔室间的反应气体的混合。如此，可认为，在大气压等离子处理系统中还大量存在改良的余地，通过实施各种改良，而能提高大气压等离子处理系统的实用性。 

实用新型内容

本实用新型鉴于这种情况而作出，其课题在于提供一种高实用性的大气压等离子处理系统。 

为了解决上述课题，本申请的第一方面记载的大气压等离子处理系统具备：多个腔室，排成一列地配置；一个以上腔室间连通路，各个腔室间连通路分别将上述多个腔室中的相邻的两个腔室连通；搬运装置，经由上述一个以上腔室间连通路并通过上述多个腔室内来搬运被处理物；多个大气压等离子发生装置，与上述多个腔室对应设置，并且，各个大气压等离子发生装置分别能够在上述多个腔室中的与上述各个大气压等离子发生装置本身对应的腔室内部在大气压下产生等离子体；及一个以上腔室间分隔装置，与上述一个以上腔室间连通路 对应设置，并且，各个腔室间分隔装置分别喷出气体以遮断上述一个以上腔室间连通路中的与上述各个腔室间分隔装置本身对应的腔室间连通路，利用所喷出的气流将相邻的两个腔室之间隔开；在上述多个腔室内依次对由上述搬运装置搬运的被处理物实施等离子处理。 

另外，第二方面记载的大气压等离子处理系统以第一方面记载的大气压等离子处理系统为基础，其中，上述多个腔室内的气压被设定为相同。 

另外，第三方面记载的大气压等离子处理系统以第一或第二方面记载的大气压等离子处理系统为基础，其中，上述多个腔室内的气压被设定为正压。 

另外，第四方面记载的大气压等离子处理系统以第一至第三方面中任一方面记载的大气压等离子处理系统为基础，其中，上述多个腔室中的配置在两端的两个腔室分别具有用于供上述搬运装置搬出或搬入被处理物的搬出搬入口，且，上述搬出搬入口向大气开口，上述大气压等离子处理系统具备两个腔室大气间分隔装置，上述两个腔室大气间分隔装置与上述配置在两端的两个腔室对应设置，并且，各个腔室大气间分隔装置分别喷出气体以遮断上述搬出搬入口，利用所喷出的气流将与上述各个腔室大气间分隔装置本身对应的腔室和大气之间隔开。