[实用新型]拼装式树池护盖有效

专利信息
申请号: 201220325025.5 申请日: 2012-07-06
公开(公告)号: CN202697390U 公开(公告)日: 2013-01-30
发明(设计)人: 李广全 申请(专利权)人: 李广全
主分类号: A01G13/02 分类号: A01G13/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 102600*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 拼装 式树池护盖
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于城市绿化技术领域,具体是一种用于树木根部的树池表面进行覆盖保护和装饰美化的树池护盖,一种拼装式的树池护盖。

技术背景

在城市道路两旁、公园和绿地,种有大量的树木,植树是城市建设中非常重要的美化和优化城市环境的工程。过去,很多树池只是设置一个土坑,周围是路面水泥砖;随着城市绿化美化水平的提高,出现了不少树池的覆盖物,如砾石、玻璃钢网格板、植草砖、各种形状的水泥块等。这些树池覆盖物也起到了一定程度的保护树池,美化环境的效果。但是它有一些不足:不能够实现即美观又能很好的吸收树池多于的水分,而且大都不够整齐美观,形式单调,设置安装不够方便。因此,需要提出一种更为理想的树池护盖。

实用新型内容

本实用新型针对上述技术问题,提供一种拼装式树池护盖,该树池护盖由一种预制树池砖拼装而成,该树池砖用一种吸水性很强的材料模压成形并烧制而成,即使用方便,样式美观,又能吸收树池内多余的水分,能美化环境,还有利于树木的生长。

本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的:拼装式树池护盖,其特征是:设有覆盖在树池上面的水平盖体,盖体的外周边与树木周围的地面或路面平整拼装衔接,在盖体紧靠树干根部周围的内侧中心设有中心坑,该中心坑为圆形或椭圆形、多边形,边沿设有翘边,在中心坑内覆盖有卵形陶粒,所述盖体是由一种预制的树池砖横竖排列,相互对接拼装而成的,所述树池砖和陶粒是由吸水性很强的材料成形并烧制而成的。

本实用新型进一步实施和完善的补充方案是:

所述树池砖设有五种形状的树池砖:表面形状为正方形、长方形、一个侧边带有翘边的正方形、一个左上角带突出翘边的五边形、一个右上角带突出翘边的五边形。

所述树池砖的底面设有直径为10-30mm的凹孔;

所述树池砖的四周底边中设有1-4个10-50度倒角。

所述树池砖的角上设有凹槽,相邻树池砖的凹槽拼在一起呈一个透孔。

本实用新型的有益效果:

1、本实用新型的树池砖采用挤压成型,烧制的保水性材料制作,树池砖本身能从树池土壤中吸取过多的水分,向空位中蒸发,防止树根的腐烂。由于蒸发树池中的多余水分是靠树池砖本身的材料来完成的。而不像其他的树池结构,都是靠结构蒸发水分,即在结构上开孔。但是,在结构上开孔会使结构强度下降,影响树池砖的寿命。

2、对树池土壤全覆盖,避免树池藏污纳垢,防止树池土壤裸露和扬尘。

3、树池砖材料本身具有吸水、保水、透水、透气的特点,促进土壤的呼吸和水分的保持,防止土壤板结。

4、树池砖采用陶土烧制而成,不老化、不腐烂并可以重复利用。

5、采用拼装式设计,可以有多种组合形式,适合各种规格的树径和树池,具有很好的施工性,外形美观,和步道形成整体。

6、树池砖直接铺设在树池土壤上,无需下部支撑,对树池框结构无要求。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图;

图2、图4、图5、图6、图7是本实用新型的树池砖的结构示意图;

图3是图2的左视结构示意图;

图8是图2、图4、图5、图6、图7的横截面结构示意图。

本实用新型产品的外形并不受此图的限制,仅外形改变也属于本实用新型的保护范围。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明,实施例:参见附图,拼装式树池护盖,设有覆盖在树池上面的1200cm×1200cm水平盖体1,盖体的外周边与树木周围的地面或路面平整拼装衔接,在盖体紧靠树干根部周围的内侧中心设有中心坑3,该中心坑为八边形,边沿设有翘边2,在中心坑内覆盖有卵形陶粒6,所述盖体是由一种预制的树池砖5横竖排列,相互对接拼装而成的,所述树池砖和陶粒是由吸水性很强的材料成形并烧制而成的。所述树池砖设有五种形状的树池砖:表面形状为正方形如图6、长方形如图7、一个侧边带有翘边23的正方形国如图5、一个左上角带突出翘边21的五边形如图2、一个右上角带突出翘边22的五边形如图4,该树池砖的厚度为5cm,所述表面形状长方形的为10cm×200cm,为正方形的为200cm×200cm。树池砖的底面设有凹孔8,孔直径为20mm;树池砖的四周底边中设有1-4个20度倒角7。树池砖的侧边上设有凹槽41、42、43,相邻树池砖的凹槽拼在一起呈一个直径10mm的透孔4。

以上仅是本专利的1个具体实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和改变,这些改进和改变也应视为本专利的保护范围。

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