[实用新型]一种用于电容式触摸屏双面双层透明导电薄膜

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于电容式触摸屏双面双层透明导电薄膜，应用于大，中，小尺寸电容式触摸屏。 

背景技术

氧化铟锡 (Indium-Tin Oxide ，ITO)透明导电薄膜应用于电容式触摸屏时，要求成膜的ITO膜蚀刻并形成特别电极图案，蚀刻前后颜色差或反射差（▽R）较小，即相对于人眼无法辨别差异。 

常见电容式触摸屏结构有表面电容式触摸屏及投射电容式触摸屏，表面电容式触摸屏只采用单层ITO薄膜,从四个角感应由手指在表层静电区域带走的电荷，从而推算出触电位置。投射电容式触摸屏采用两层ITO薄膜，由每一层ITO层感应与手指间互电容带走电荷，相对于表面电容式，投射电容式能穿透较厚覆盖层。 

目前，对于中小尺寸电容屏而言，投射电容式触摸屏比较流行。结构如下： 覆盖层， 掩膜层（标示层），光学胶， 第一层感应单元与基底， 光学胶， 第二层感应单元与基底，光学胶或空气层，8LCD.第四层感应单元与衬底，ITO层厚度小于100nm，ITO涂层基底可以为100μm-1mm的玻璃（IR~1.52）或是25μm-300μm PET（IR~1.65）薄膜，ITO越厚，方阻越低，信噪比越好，ITO越薄，光学透光率越好；第六层感应单元与基底与第四层材料相同，但玻璃与PET薄膜不能混合使用，若ITO在基底上表面，厚的基底可以获得更高的信噪比，若ITO在基底下表面，则薄的基底可以获得较高的信噪比。 

     目前，电容式触摸屏ITO film导电薄膜结构如该结构由四层膜组成，基材，基材上表面粘接层，高折射率层，绝缘层及导电层，基材上下表面加硬层。基材PET,厚度：20-200μm，粘接层为SiO2或SiO2 与SiO混合物，厚度：5-20nm，高折射率层为Nb2O5或TiO2，厚度：5-15nm，绝缘层为SiO2，厚度：40-65nm，导电层为ITO,厚度：15-25nm。加硬层厚度：20-60μm，加硬层不影响整体透过曲线，起到保护PET的作用。 

     目前现有的投射式电容屏绝大多数外挂式即采用承载感测线路（sensor pattern）的基板与面板相贴合，基板通常为玻璃或者薄膜（PET）,玻璃式阻抗较好，薄膜式重量，厚度优势较明显。在触摸屏工艺中，堆叠的层与层之间需要进行贴合，因此触控模组的最终成本除了材料成本外，就跟贴合的良率息息相关，特别是进行全贴合的方式。因此，若是能够提高贴合良率、甚至减少贴合次数，就会成为触控制程技术的发展方向。 

发明内容

为克服以上缺陷，本实用新型目的在于提供一种双面双层透明导电薄膜结构，本膜系相对于现有技术而言，较少了贴合次数，可使产能提高，工艺过程较易掌握，触摸屏生产产品良率上升。 

为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案： 

一种用于电容式触摸屏双面双层透明导电薄膜，此导电薄膜的中间层为柔性透明基材，在柔性透明基材的上下表面分别设置有加硬层，在所述加硬层的另一侧依次向外设置有粘接层、透明导电层。

所述粘接层的折射率为1.47-1.6。 

所述粘接层的厚度为5---30nm。 

所述粘接层的材料为SiOx或SixNyO。 

所述透明导电层的折射率为1.7。 

所述透明导电层的厚度为15—25nm。 

本实用新型的有益效果：本实用新型所获得的透明导电薄膜可见光透过率高于85%，方阻为150-260欧姆。柔性基材上下表面加硬层起到保护PET的作用。较少了贴合次数，可使产能提高，工艺过程较易掌握，触摸屏生产产品良率上升。 

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。 

具体实施方式

下面结合附图1对本实用新型进行详细说明： 

一种用于电容式触摸屏双面双层透明导电薄膜，此导电薄膜的中间层为柔性透明基材3，在柔性透明基材3的上下表面分别设置有加硬层4，在所述加硬层4的另一侧依次向外设置有粘接层2、透明导电层1。

所述粘接层2的折射率为1.47-1.6。 

所述粘接层2的厚度为5---30nm。 

所述粘接层2的材料为SiOx或SixNyO。 

所述透明导电层1的折射率为1.7。 

所述透明导电层1的厚度为15—25nm。