[实用新型]一种具有纹理的抗污染中空纤维膜

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种具有纹理的抗污染中空纤维膜。

背景技术

随着膜分离技术的广泛应用，膜污染成为亟待解决的问题。膜污染是由处理物料中的粒子吸附沉积在膜表面堵塞膜孔造成的。研究人员在改善有机高分子分离膜的抗污染性能方面做了大量的工作。其中绝大部分工作的研究方向是改善膜材料的亲水性，而通过改变膜表面形态增强抗污染性能的研究很少，在实际研究过程中专家发现：通过增大膜丝的粗糙度，可以增强物料在膜表面的扰动，粒子不易发生吸附沉积，从而可以增强膜丝的抗污染性能。基于上述研究成果，本实用新型提供一种具有纹理的中空纤维膜，通过规则纹理增加膜丝外壁的粗糙度，从而达到抗污染的目的。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种结构简单、使用方便的具有纹理的抗污染中空纤维膜，具有很好的抗污染性能。

本实用新型的具有纹理的抗污染中空纤维膜，包括中空纤维膜丝，所述中空纤维膜丝的外壁上印刻有规则纹理凹槽，规则纹理凹槽的深度为0.02-0.5mm。

本实用新型的具有纹理的抗污染中空纤维膜，所述中空纤维膜丝为聚砜、聚醚砜、聚偏氟乙烯、聚氯乙烯或聚丙烯腈中空纤维膜丝。

本实用新型的具有纹理的抗污染中空纤维膜，所述规则纹理凹槽为左旋或右旋的单向螺纹，单向螺纹的导程为2-40mm。

本实用新型的具有纹理的抗污染中空纤维膜，所述规则纹理凹槽由左旋螺纹和右旋螺纹相互交叉构成，左旋螺纹和右旋螺纹的导程均为2-40mm。

本实用新型的具有纹理的抗污染中空纤维膜，所述规则纹理凹槽为均匀分别在中空纤维膜丝外壁上的若干环形凹槽，相邻两个环形凹槽之间的间距为0.5-40mm。

本实用新型的具有纹理的抗污染中空纤维膜，所述规则纹理凹槽由相互交叉的左旋螺纹和右旋螺纹以及均匀设置在中空纤维膜丝外壁上的若干竖直凹槽构成，左旋螺纹和右旋螺纹的导程均为2-40mm，相邻两个竖直凹槽之间的间距为0.5-3mm。

与现有技术相比本实用新型的有益效果为：本实用新型的具有纹理的抗污染中空纤维膜结构简单，通过在中空纤维膜丝的外壁上设置规则纹理凹槽可以增加膜丝外壁的粗糙度，增强膜丝的抗污染性能，延长了中空纤维膜使用寿命。

附图说明

图1是本实用新型实施例1所述的一种具有纹理的抗污染中空纤维膜的结构示意图；

图2是本实用新型实施例2所述的一种具有纹理的抗污染中空纤维膜的结构示意图；

图3是本实用新型实施例3所述的一种具有纹理的抗污染中空纤维膜的结构示意图；

图4是本实用新型实施例4所述的一种具有纹理的抗污染中空纤维膜的结构示意图。

图中：

1、中空纤维膜丝；2、规则纹理凹槽。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。

实施例1

如图1所示，一种具有纹理的抗污染中空纤维膜，包括中空纤维膜丝1，所述中空纤维膜丝1的外壁上印刻有规则纹理凹槽2，规则纹理凹槽2的深度为0.02-0.5mm。

本实用新型的具有纹理的抗污染中空纤维膜，所述中空纤维膜丝1为聚砜、聚醚砜、聚偏氟乙烯、聚氯乙烯或聚丙烯腈中空纤维膜丝，中空纤维膜丝1可以是微滤膜或者超滤膜。

本实用新型的具有纹理的抗污染中空纤维膜，所述规则纹理凹槽2为左旋或右旋的单向螺纹，单向螺纹的导程为2-40mm。

实施例2

如图2所示，与实施例1不同之处在于：所述规则纹理凹槽2由左旋螺纹和右旋螺纹相互交叉构成，左旋螺纹和右旋螺纹的导程均为2-40mm。

实施例3

如图3所示，与实施例1不同之处在于：所述规则纹理凹槽2为均匀分别在中空纤维膜丝外壁上的若干环形凹槽，相邻两个环形凹槽之间的间距为0.5-40mm。

实施例4

如图4所示，与实施例1不同之处在于：所述规则纹理凹槽2由相互交叉的左旋螺纹和右旋螺纹以及均匀设置在中空纤维膜丝外壁上的若干竖直凹槽构成，左旋螺纹和右旋螺纹的导程均为2-40mm，相邻两个竖直凹槽之间的间距为0.5-3mm。

本实用新型的具有纹理的抗污染中空纤维膜结构简单，通过在中空纤维膜丝的外壁上设置规则纹理凹槽可以增加膜丝外壁的粗糙度，增强膜丝的抗污染性能，延长了中空纤维膜使用寿命。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变型，这些改进和变型也应视为本实用新型的保护范围。