[实用新型]X射线显微成像系统

权利要求书

1.一种X射线显微成像系统，其特征在于，包括:

用于发射X射线的射线源，所述射线源可沿纵向移动；

用于承载待测样品的样品台；

探测器，所述探测器和所述射线源在纵向上位于所述样品台的两侧，所述探测器包括横向相邻的大视场探测器和高分辨率探测器，所述探测器被构造成可分别沿横向和纵向移动以使所述射线源发射出的X射线穿透所述待测样品后投射至所述大视场探测器和高分辨率探测器中的其中一个上；

控制器，所述控制器用于控制所述射线源和所述探测器的移动；和

计算机，所述计算机分别与所述控制器和所述探测器相连以分别向所述控制器发出控制指令及对待测样品进行图像数据采集。

2.根据权利要求1所述的X射线显微成像系统，其特征在于，还包括：射线源变焦平台，所述射线源设在所述射线源变焦平台上，所述射线源变焦平台与所述控制器相连以被控制沿纵向移动。

3.根据权利要求2所述的X射线显微成像系统，其特征在于，所述射线源变焦平台包括：

第一底座，所述第一底座上形成有两个第一导轨槽，所述两个第一导轨槽沿横向彼此间隔开；

第一移动平台，所述第一移动平台的底部设有两个沿横向彼此间隔开的第一导轨，所述两个第一导轨分别一一对应地配合在所述两个第一导轨槽内。

4.根据权利要求1所述的X射线显微成像系统，其特征在于，还包括：

探测器变焦平台，所述探测器变焦平台与所述控制器相连以被控制沿纵向移动；

探测器切换平台，所述探测器切换平台设在所述探测器变焦平台上，所述探测器切换平台与所述控制器相连以可被控制沿横向移动，其中所述大视场探测器和所述高分辨率探测器沿横向并排设在所述探测器切换平台上。

5.根据权利要求4所述的X射线显微成像系统，其特征在于，所述探测器变焦平台包括：

第二底座，所述第二底座上形成有两个第二导轨槽，所述两个第二导轨槽沿横向彼此间隔开；

第二移动平台，所述第二移动平台的底部设有两个沿横向彼此间隔开的第二导轨，所述两个第二导轨分别一一对应地配合在所述两个第二导轨槽内。

6.根据权利要求5所述的X射线显微成像系统，其特征在于，所述探测器切换平台包括：

两个第三导轨，所述两个第三导轨设在所述第二移动平台的上表面上且沿纵向彼此间隔开；

第三移动平台，所述第三移动平台的底部设有两个第三导轨槽，其中所述两个第三导轨分别一一对应地配合在所述两个第三导轨槽内。

7.根据权利要求1所述的X射线显微成像系统，其特征在于，所述样品台包括转台和三维定位部，所述三维定位部设在所述转台上且所述待测样品放置在所述三维定位部上。

8.根据权利要求7所述的X射线显微成像系统，其特征在于，所述转台的水平截面为圆形、椭圆形或变数大于三的多边形。

9.根据权利要求1所述的X射线显微成像系统，其特征在于，所述控制器与所述样品台相连以控制所述样品台沿所述纵向移动。