[实用新型]用于检测PCB板的自动光学检测装置有效

专利信息
申请号: 201220282326.4 申请日: 2012-06-12
公开(公告)号: CN202631440U 公开(公告)日: 2012-12-26
发明(设计)人: 张方德;王琦;贺兴志;付伟 申请(专利权)人: 浙江欧威科技有限公司
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88
代理公司: 温州金瓯专利事务所(普通合伙) 33237 代理人: 黄肇平
地址: 325000 浙江省温州市高*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 检测 pcb 自动 光学 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种用于检测PCB板的自动光学检测装置。

背景技术

在现代电子设备和电子产品中,印刷电路板(Printed Circuit Borad以下简称PCB)占有重要的地位,是集成、安装各种电子元器件的载体,在各个领域得到了广泛的应用。在PCB的质量检测时,通常采用自动光学检测设备(Automatic Optic Inspection英文简称AOI),利用面阵和线阵工业,CCD(Charge-coupled Device 电荷耦合元件)以图像分块连续扫描方式为基础,运用图像处理和识别技术对PCB图像进行分析,从而判断PCB是否合格及存在的缺陷。

现有的自动光学检测装置,一般包括机架、龙门架和成像系统,所述的机架上设有工作台,所述工作台上方设有成像系统,所述的成像系统安装于滑板上,所述的成像系统包括光源、反光镜和CCD传感器。其中,反光镜和CCD传感器的相对距离可调,光源固定安装于滑板上。所述的成像系统与龙门架相连接并且只能沿机架X轴方向上移动,所述的工作台设于机架上并能沿机架的Y轴方向上移动,通过工作台与成像系统的移动对PCB的X、Y轴方向进行扫描。在光源的照射以及反光镜的作用下,通过CCD传感器进行捕捉、拍摄获得图像,通过USB或者相机输出,把从光源反射回来的量与己经编好的程序标准进行比较、分析和判断。这就要求成像系统中光源的聚焦点要准确的落在待测物体平面上,从而达到理想成像效果,这样得到比较,分析和判断是准确的。但是,成像系统的光源聚焦点与工作台的距离固定不变,而待测物体的厚度不等,这就造成了成像系统中光源的聚焦点沒有准确的落在待测物体平面上,这样采集到的图像与标准进行比较、分析和判断时,误差较大。往往不合格的产品容易混入合格产品中,而合格的产品却被定义成不合格,从而产生损失和浪费。同时也大大的限制了产品的使用范围。

发明内容

为解决背景技术中成像系统的光源聚焦点不能准确的落在不同厚度的PCB的表面上的问题,本实用新型提供一种用于检测PCB板的自动光学检测装置。

本实用新型的技术方案是:一种用于检测PCB板的自动光学检测装置,包括机架、龙门架和成像系统,所述的机架上设有工作台,所述的成像系统包括光源、反光镜和CCD传感器,所述的光源固定安装与垂直滑板上,所述的龙门架通过水平丝杠和水平导轨安装有水平滑板,所述的水平滑板与水平导轨滑移配合,所述的垂直滑板通过垂直丝杠和垂直导轨与水平滑板相连接,所述的垂直滑板能沿垂直导轨上下滑移,所述的垂直丝杠由伺服电机驱动。

作为本实用新型的一种改进,所述的垂直丝杠为滚珠丝杠。

作为本实用新型的另一种改进,所述的水平滑板上设有垂直导轨安装槽,所述的垂直导轨安装槽上安装有垂直导轨,所述的垂直滑板上固定有滑块,所述的滑块与垂直导轨相适配。

作为本实用新型的另一种改进,所述的垂直滑板上设有凹槽,所述的水平滑板上设有容置槽,所述的凹槽和容置槽相对应。

本实用新型的有益效果是,使得光源与工作台的距离可以相对距离调整,从而使得光源的聚焦点能准确的落到待测物体的表面,使得拍摄的图像清晰、准确,从而保证了比较、分析后能得到准确的判断。这样不仅提高了检验的效率,同时又提高了产品的合格率,降低了成本,利国利民。同时,由于光源的聚焦点可调,使得本实用新型可以用与不同厚度的PCB检测,大大提高了产品的适用范围,提高了产品的竞争力。

附图说明

附图1为本实用新型的结构示意图。

附图2为本实用新型的左视图。

附图3为附图1中水平滑板5的结构示意图。

附图4为附图1中垂直滑板6的结构示意图。

图中,1、机架;2、龙门架;31、光源;32、反光镜;33、CCD传感器;4、工作台; 5、水平滑板;51、垂直导轨安装槽;52、容置槽;6、垂直滑板;61、凹槽;7、伺服电机;71、垂直丝杠;8、垂直导轨;81、滑块;91、水平丝杠;92、水平导轨。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型实施例作进一步说明:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江欧威科技有限公司,未经浙江欧威科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220282326.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top