[实用新型]一种承载布槽有效
| 申请号: | 201220268207.3 | 申请日: | 2012-06-08 |
| 公开(公告)号: | CN202595486U | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
| 发明(设计)人: | 林韦廷 | 申请(专利权)人: | 林韦廷 |
| 主分类号: | D06B23/14 | 分类号: | D06B23/14 |
| 代理公司: | 北京元中知识产权代理有限责任公司 11223 | 代理人: | 张聚增 |
| 地址: | 中国台湾桃园县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 承载 | ||
技术领域
本实用新型是与染布机有关,是在提供一种可降低织物的浴比,以大量节省染布时染液的用量的改良式承载布槽。
背景技术
按,长型染布机如依布匹运行的方式,可分为两种一为导布管12在胴身11上方,如图1所示,一般称之为上走式染布机。而另一种导布管12在胴身11下方,则如图2所示,一般称之为下走式染布机。
现有的长型染布机无论是属于何种形式,其胴身11底部设有承载布槽13,如图3所示,该承载布槽13是盛装有染液14,使织物20通过导布管12后可随即进入承载布槽13底层的染液14中进行水浴处理以稳定其染剂。
而为了让织物20均能沉浸于染液14内,使得其染液14需装填至足以供织物20之浸泡高度H1;该承载布槽13底部的断面是为呈一平面状,而该胴身11底部的断面为呈一圆弧状,其圆弧状凹陷断面仍需由染液14加以填满,但其织物因受该承载布槽13的承载,而无法浸泡至圆弧状凹陷断面中的染液14范围中,因此将造成染液14使用的浪费,致针对此一缺失,而有必要再加以改良,以求尽善尽美。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型即在提供一种可降低织物的浴比,以大量节省染布时染液的用量的改良式承载布槽,为其主要目的。
为达到上述目的,本实用新型的改良式承载布槽是设于一染布机的胴身底部,用以承载染液,并可供织物通过;其中,该承载布槽的底部是朝胴身底部凹伸有下沉部。
当织物承置于该承载布槽时,利用该下沉部的设置可让织物下沉接近该胴身底部,以大为降低染液的用量。
依据上述主要结构特征,所述的下沉部可以为U型结构体。
上述的U型结构体可以为一弧面形式;或者可以为多个弧面相互连接而成;或者可以为多个平面相互连接而成。
依据上述主要结构特征,所述的下沉部可以为W型结构体。
上述的W型结构体可以为弧面形式;或者可以为多个平面相互连接而成。
依据上述主要结构特征,所述的W型结构体顶面的中央处进一步设有一隔板,而将该承载布槽分为两个空间以供两条织物通过,而可在同一时间内,进行对二条织物的染色工作,大幅增加染色的效率。
依据上述主要结构特征,所述的承载布槽设有多个排水孔。
本实用新型的有益效果是:所述一种承载布槽是设于一染布机的胴身底部,用以承载染液,并可供织物通过;其中,该承载布槽的底部是朝胴身底部凹伸有下沉部,当织物承置于该承载布槽时,利用该下沉部的设置可让织物下沉接近该胴身底部,以大为降低染液的用量。
附图说明
图1是一般上走式染布机的结构示意图。
图2是一般下走式染布机的结构示意图。
图3是现有承载布槽的使用配置参考图。
图4是本实用新型中承载布槽一较佳实施例的使用配置参考图。
图5是本实用新型中承载布槽第二实施例的使用配置参考图。
图6是本实用新型中承载布槽第三实施例的使用配置参考图。
主要组件符号说明
浸泡高度H1 浸泡高度H2
胴身11 导布管12
承载布槽13 染液14
织物20 承载布槽30
下沉部31 隔板32
具体实施方式
本实用新型的特点,可参阅本案图式及实施例的详细说明而获得清楚地了解。
如图4本实用新型承载布槽一较佳实施例的使用配置参考图所示,本实用新型的改良式承载布槽30主要设于染布机的胴身11底部,用以承载染液14,并可供织物20通过。
其中,该承载布槽30的底部是朝胴身11底部凹伸有下沉部31,使该承载布槽30底部更为接近该胴身11底部,如图所示的实施例中,该下沉部31可以为W型结构体,且可以为弧面形式所构成;当然,也可如图5的第二实施例所示,可以为多个平面相互连接而成。
当织物20承置于该承载布槽30时,利用该下沉部31的设置可让织物20下沉接近该胴身11底部,可降低该织物20的浸泡高度H2,可降低织物的浴比,以大量节省染布时染液的用量。
再者,该W型结构体形式的下沉部31顶面的中央处进一步设有一隔板32,而将该承载布槽30分为两个空间以供两条织物20通过,而可在同一时间内,进行对二条织物20的染色工作,大幅增加染色的效率;另外,该承载布槽也设有多个排水孔(图未示),增加排水效能。
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