[实用新型]适用于平面磨光设备的上板装置有效

专利信息
申请号: 201220248854.8 申请日: 2012-05-30
公开(公告)号: CN202622498U 公开(公告)日: 2012-12-26
发明(设计)人: 梁信宏 申请(专利权)人: 昆山正秉电子材料有限公司
主分类号: B24B7/00 分类号: B24B7/00
代理公司: 东莞市创益专利事务所 44249 代理人: 李卫平
地址: 215311 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 适用于 平面 磨光 设备 装置
【权利要求书】:

1.适用于平面磨光设备的上板装置,其特征在于:该上板装置至少具有一支撑架及一承托架,承托架以翘翘板形式安装在支撑架上,承托架上设有至少两根平行排列的滚柱。

2.根据权利要求1所述的适用于平面磨光设备的上板装置,其特征在于:所述上板装置还包括有一可凸伸出承托架之滚柱顶面的万向托架,该万向托架的上端设有若干具有支顶作用的万向轮,万向托架安装在承托架或支撑架上,万向托架由伸缩机构驱动伸缩。

3.根据权利要求1所述的适用于平面磨光设备的上板装置,其特征在于:所述支撑架上设有给予承托架倾斜定位的第一定位部和给予承托架水平定位的第二定位部。

4.根据权利要求1或2所述的适用于平面磨光设备的上板装置,其特征在于:所述上板装置的承托架上还设有触碰开关,触碰开关控制所驱动承托架上的滚柱的动力装置,以及控制所驱动万向托架伸缩的伸缩机构。

5.根据权利要求2所述的适用于平面磨光设备的上板装置,其特征在于:所述伸缩机构为气缸。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山正秉电子材料有限公司,未经昆山正秉电子材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220248854.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top