[实用新型]三维形貌痕迹比对测量仪的弹壳夹具有效

专利信息
申请号: 201220240035.9 申请日: 2012-05-26
公开(公告)号: CN202599395U 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 严继华;路振涛;孟凡忠;梁玉清 申请(专利权)人: 安徽国盾三维高科技有限公司
主分类号: G01B21/20 分类号: G01B21/20
代理公司: 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 代理人: 杨晋弘
地址: 233000 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 三维 形貌 痕迹 测量仪 弹壳 夹具
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及公安刑侦鉴识领域,特别是涉及一种在三维形貌痕迹比对测量仪上使用的弹壳夹具。

背景技术

目前我国对枪弹的弹头、弹壳及工具线条痕迹等方面的比对和检测,尚处在以实物样本存储来分析的状况,对痕迹信息的检测仍停留在借助单一仪器直接观察二维图像比对的技术层面上,无法解决在三维空间物体形貌技术和痕迹比对技术中存在的精确定位测量难题。在使用三维形貌痕迹比对测量仪时,由于观测弹壳的需要,急需一种用于对弹壳观测的方便、易用的操作夹具。

实用新型内容

本实用新型的目的就是为了实现对弹壳的多方位观测,提供了一种用于三维形貌痕迹比对测量仪的弹壳夹具。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种三维形貌痕迹比对测量仪的弹壳夹具, 其特征在于包括以下几个组成部分:

a、底盘,底盘上设有一对支座;

b、摆臂,摆臂呈U形并设置在一对支座之间,锁紧螺杆穿依次穿过一侧支座、摆臂底部及另一侧底座后,与锁紧螺母连接配合,摆臂底部设有紧定螺钉与锁紧螺杆穿配合;

c、摆臂两端各设有一个摆臂座,每个摆臂座的空腔内设有一个贯通的拉杆,拉杆上套设弹簧,弹簧一端与摆臂座的空腔端面配合、另一端与拉杆上的定位环配合,拉杆向外一端连接有调整手轮;

d、弹壳夹持架,它包括:

外环体,外环体内圆设有转动配合的内环体,外环体两侧分别设有螺孔与对应的拉杆向内的一端联接配合;

外环体圆柱面上分别设有一个外环压杆和一个通槽,内环体上设有内环压杆,内环压杆向外伸出通槽,并且通槽中设有拉簧与内环压杆连接;

外环体上端面均布铰接三个弧形臂并指向内环体中心,每个弧形臂一端还与内环体上端面铰接,每个弧形臂指向内环体中心的一端分别设有弹壳夹头。

使用时,将该弹壳夹具放置在比对测量仪的旋转台上,向内挤压外环压杆和内环压杆,内环压杆将带动内环体转动,内环体通过铰接的定位销带动弧形臂旋转,此时三个弧形臂端部互相分离,将测量弹壳放置在三个弧形臂端部夹头之间,松开压杆,在拉簧的作用下内环压杆回位,使得三个弧形臂将弹壳夹紧;观测时,可将摆臂绕紧定螺杆旋转至合适位置,拧紧固定旋钮,可使用调节手轮对弹壳进行旋转调整。

综上所述,采用本实用新型的优点是通过设置弹壳夹持架,采用对摆臂及夹持架的角度调整,实现了对测量弹壳的多方位旋转观测,满足了测量仪工作的需要,其结构合理、性能稳定、操作简便,可用于微电子微机械精密件质量检测,从而提高质量检验技术水平和工作效率。

附图说明

图1是本实用新型的立体装配结构的示意图;

图2是图1的俯视图;

图3是图2的A-A剖视图;

图4是图2 的B-B剖视图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作详细说明:

本实用新型提供的一种三维形貌痕迹比对测量仪的弹壳夹具,包括以下几个组成部分:

a、底盘1,如图1、图3及图4所示,底盘1上设有一对支座1a;

b、摆臂6,如图1、图3及图4所示,摆臂6呈U形并设置在一对支座1a之间,锁紧螺杆穿9依次穿过一侧支座、摆臂底部及另一侧底座后,与锁紧螺母15连接配合,以锁紧固定摆臂,摆臂底部设有紧定螺钉10与锁紧螺杆穿9配合;

c、如图1、图2及图3所示,摆臂6两端各设有一个摆臂座6a,每个摆臂座的空腔内设有一个贯通的拉杆7,拉杆7上套设弹簧5,弹簧5一端与摆臂座的空腔端面配合、另一端与拉杆7上的定位环7a配合,拉杆7向外一端连接有调整手轮2,依靠螺钉3连接固定;

d、弹壳夹持架8,如图1、图2、图3及图4所示,它包括:

外环体8a,外环体8a内圆设有转动配合的内环体8e,外环体8a两侧分别设有螺孔与对应的拉杆7向内的一端联接配合,如图3所示;

外环体8a圆柱面上分别设有一个外环压杆8c和一个通槽8d,内环体8e上设有内环压杆8f,内环压杆8f向外伸出通槽8d,并且通槽8d中设有拉簧8g与内环压杆8f连接;

外环体上端面分别用外销钉14均布铰接三个弧形臂12,弧形臂12指向内环体8e中心,每个弧形臂12一端分别用内销钉13与内环体8e上端面铰接,每个弧形臂12指向内环体8e中心的一端分别设有弹壳夹头11。

以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式。应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以作出若干变型和改进,这些也应视为属于本实用新型的保护范围。

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