[实用新型]辊道窑缓冷带结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及陶瓷建筑制造设备领域，特别涉及一种辊道窑缓冷带结构。

背景技术

辊道窑中包括了余热带、烧成带、急冷带和缓冷带，其中缓冷带结构如图1所示，由于窑炉设计者在设计窑炉各带比例时一般应用理论计算，设计出的缓冷带包括辊上通道和辊下通道，其中辊2的位置在图1上示出。传统的辊道窑缓冷带吸风罩都是设置在辊2之上的。在辊道窑烧成过程中，从事过窑炉行业的都知道，辊道窑缓冷带温度及压力分布均匀性的重要性，但是在传统的辊道窑缓冷带中因高温气体在几何压头的作用下都会往上升，所以使缓冷带辊上通道和辊下通道的温度偏差增大，不利于陶瓷产品的冷却，降低了产品质量。

实用新型内容

为了能够克服现有技术中缓冷带辊上通道和辊下通道存在温度偏差的缺陷，本实用新型实施例提供了一种辊道窑缓冷带结构。所述技术方案如下：

一种辊道窑缓冷带结构，包括缓冷带辊上通道、缓冷带辊下通道，所述缓冷带辊下通道设置用于使所述缓冷带辊下通道的截面积小于所述缓冷带辊上通道的截面积的窑墙。

所述窑墙设置在所述辊道窑缓冷带辊下通道的两侧。

所述窑墙的截面为长方形。

所述窑墙的厚度为116～232毫米。

所述窑墙的高度为260～460毫米。

所述缓冷带辊下通道的截面积比所述缓冷带辊上通道的截面积小0.1～0.2平方米。

所述缓冷带辊下通道的底面积比所述缓冷带辊上通道的底面积小1.5～3平方米。

本实用新型实施例提供的技术方案带来的有益效果是：

通过在缓冷带辊下通道设置窑墙，使得缓冷带辊上通道的截面积大于辊下通道的截面积，增大辊下热气体向辊棒上方通道升的阻力，达到减小辊道窑缓冷带的辊上、下温度差的目的，确保缓冷带温度控制的合理性,可以有效解决缓冷带辊上通道和辊下通道存在温度偏差的问题，提高产品质量。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是现有技术中辊道窑缓冷带结构示意图；

图2是本实用新型提供的辊道窑缓冷带结构示意图；

其中，1-窑墙；2-辊。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型实施方式作进一步地详细描述。

如图2所示，本实用新型提供了一种辊道窑缓冷带结构，该结构包括缓冷带辊上通道、缓冷带辊下通道，缓冷带辊下通道的两侧设置了窑墙1，使得缓冷带辊下通道的截面积小于缓冷带辊上通道的截面积。

因高温气体在几何压头的作用下都会往上升，而现有技术中辊道窑缓冷带吸风罩都是设置在辊上的，所以使辊上或辊下通道的温度偏差增大，通过在缓冷带辊下通道两侧各多砌一层窑墙来减小窑炉辊下内宽，增大辊下热气体向辊上通道上升的阻力，达到减小辊道窑缓冷带的辊上或辊下通道的温度差的目的，利于陶瓷产品的冷却。

具体地，窑墙1的高度在0.26～0.46米之间，厚度在116～232mm之间（参见图2中的窑墙1），为保证热气体均匀分布在通道空间内，达到温度的均匀性，窑墙截面为长方形（参见图2中的窑墙1，长方形的长边为窑墙的高度，短边为窑墙的厚度）。本实用新型中设置的窑墙使得缓冷带辊下通道的截面积比缓冷带辊上通道的截面积小0.1～0.2平方米。缓冷带辊下通道的底面积比缓冷带辊上通道的底面积小1.5～3平方米。

本实用新型还可以具有其他的形式变化，如本领域技术人员所熟知，上述实施例仅仅起到对上述实用新型保护范围内的示范作用，对本领域普通技术人员来说，在本实用新型所限定的保护范围内还有很多常规变形和其他实施例，这些变形和实例都将在本实用新型待批的保护范围内。