[实用新型]一种用于电容式触摸屏双层导电薄膜

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种透明导电薄膜，尤其涉及一种双层透明导电薄膜。

背景技术

氧化铟锡 (Indium-Tin Oxide ，ITO)溅射到柔性基材表面形成低电阻高可见光透过率薄膜。经酸性液蚀刻后得到不可见（对人眼而言）导电薄膜，是现代平板显示，触摸屏，加热玻璃窗不可或缺的材料。此外薄膜还可反射红外线、屏蔽紫外线和电磁波，可广泛用于屏式触控技术，太阳能、防止起雾除去霜玻璃、冰玻璃、防静电涂层等。

    ITO透明导电薄膜应用于电容式触摸屏时，要求成膜的ITO膜蚀刻并形成特别电极图案，蚀刻前后颜色差或反射差（▽R）较小，即相对于人眼无法辨别差异。

     目前，电容式触摸屏导电薄膜结构：基材上表面粘接层，高折射率层，绝缘层及导电层，基材上下表面加硬层。基材一般为PET,厚度：20-200μm，粘接层为SiO2或SiO2 与SiO混合物，厚度：5-20nm，高折射率层为Nb2O5或TiO2，厚度：5-15nm，绝缘层为SiO2，厚度：40-65nm，导电层为ITO,厚度：15-25nm。加硬层厚度：20μm，加硬层不影响整体曲线，起到保护PET的作用。

目前该结构的缺点在于：

（1）镀层厚，层数多，产能低下，成本高。

（2） 膜系结构复杂，影响因素较多，导致生产工艺较难控制。

（3） 对于四层结构而言，绝缘层厚度一般为40-65nm，膜层相对较脆，在触摸屏后段生产加工易发生折伤，龟裂等现象，导致产品良率低下。

发明内容

为了克服上述缺陷，本实用新型的目的在于提供一种双层透明导电薄膜结构，本膜系相对于现有技术而言，可使产能提高，工艺过程较易掌握，触摸屏生产产品良率上升。

为了达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种用于电容式触摸屏双层导电薄膜，在柔性透明基材上镀有纳米级薄膜的粘接层，粘接层上表面镀有纳米级薄膜的透明导电层。

在柔性透明基材的上下表面设有加硬层。粘接层的厚度为5-30nm。透明导电层的厚度为15-25nm。

本实用新型的有益效果：

相对于目前触摸屏导电结构而言，本膜系结构粘接层厚度较薄，在触摸屏生产过程中有效减少了由于厚度较厚导致的折伤，龟裂等不良现象。有效的提高了触摸屏生产良率。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

 下面结合附图1对本实用新型进行详细描述：一种用于电容式触摸屏双层导电薄膜，在柔性透明基材3上镀有纳米级薄膜的粘接层2，粘接层2上表面镀有纳米级薄膜的透明导电层1。

在柔性透明基材3的上下表面设有加硬层4。

粘接层2的厚度为5-30nm。

透明导电层1的厚度为15-25nm。

以上所述实施例仅表达了本专利的一种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本专利构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本专利的保护范围应以所附权利要求为准。