[实用新型]一种均匀漫反射槽装置有效
| 申请号： | 201220209335.0 | 申请日： | 2012-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN202599811U | 公开（公告）日： | 2012-12-12 |
| 发明（设计）人： | 王培军 | 申请（专利权）人： | 北京普析通用仪器有限责任公司 |
| 主分类号： | G01N21/01 | 分类号： | G01N21/01 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人： | 龚燮英 |
| 地址： | 101200*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 均匀 漫反射 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种均匀漫反射槽装置，包括：硬铝材料制成的样品池臂，所述的样品池臂上设有样品池，其特征在于，所述样品池为柱面槽形，所述样品池的表面抛光并镀铝质反射膜，或者样品池的表面喷涂硫酸钡、氟化镁或聚四氟乙烯的漫反射介质层。
2.一种均匀漫反射槽装置，包括：硬铝材料制成的样品池臂，其特征在于，还包括聚四氟乙烯或陶瓷积分球制成的比色杯池，所述比色杯池是柱面槽形，所述样品池臂上设有插槽，所述比色杯池设置在所述样品池臂上的插槽内。
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