[实用新型]一种磁控溅射旋转靶有效

专利信息
申请号: 201220208554.7 申请日: 2012-05-10
公开(公告)号: CN202595261U 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 宋光耀;李毅;刘志斌;翟宇宁 申请(专利权)人: 深圳市创益科技发展有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 深圳市毅颖专利商标事务所 44233 代理人: 张艺影;李奕晖
地址: 518029 广东省深圳市福田区深南大道*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 磁控溅射 旋转
【权利要求书】:

1.一种磁控溅射旋转靶,包括靶筒、靶轴、靶材和磁体,靶材装在靶筒的外壁上,磁体位于靶筒内部,其特征在于所述靶筒的两端设有连接构件,该连接构件由端头、靶轴支承座和连接夹套组成,端头由连接夹套安装在靶筒的两端,靶轴支承座安装在端头内,靶轴的一端装有磁体移动机构,另一端装有靶材旋转机构。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射旋转靶,其特征在于所述靶轴贯穿靶筒,靶轴支承座内设有靶轴移动槽。

3.根据权利要求1所述的磁控溅射旋转靶,其特征在于所述靶轴的两端设有平面台阶,该平面台阶配合插接在靶轴移动槽内。

4.根据权利要求1所述的磁控溅射旋转靶,其特征在于所述磁体移动机构主要由电机、齿轮和齿条组成,电机的运动轴上装有齿轮,靶筒的端头装有齿条,齿轮与齿条啮合。

5.根据权利要求1所述的磁控溅射旋转靶,其特征在于所述靶轴装有靶材旋转机构的一端,其上的靶轴支承座的长度大于端头的长度。

6.根据权利要求1所述的磁控溅射旋转靶,其特征在于所述靶材旋转机构包括电机、主齿轮和副齿轮,电机的转动轴上装有主齿轮,靶筒的端头上装有副齿轮,主齿轮与副齿轮相啮合,带动靶材旋转。

7.根据权利要求1所述的磁控溅射旋转靶,其特征在于所述磁体包括固定块、封闭盒、靶靴和多组磁铁,磁铁安装在磁靴上,且置于封闭盒内,该封闭盒由固定块安装在靶轴上。

8.根据权利要求7所述的磁控溅射旋转靶,其特征在于所述磁体的封闭盒内装有冷却水。

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