[实用新型]一种磁控溅射旋转靶有效
申请号: | 201220208554.7 | 申请日: | 2012-05-10 |
公开(公告)号: | CN202595261U | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
发明(设计)人: | 宋光耀;李毅;刘志斌;翟宇宁 | 申请(专利权)人: | 深圳市创益科技发展有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 深圳市毅颖专利商标事务所 44233 | 代理人: | 张艺影;李奕晖 |
地址: | 518029 广东省深圳市福田区深南大道*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 磁控溅射 旋转 | ||
1.一种磁控溅射旋转靶,包括靶筒、靶轴、靶材和磁体,靶材装在靶筒的外壁上,磁体位于靶筒内部,其特征在于所述靶筒的两端设有连接构件,该连接构件由端头、靶轴支承座和连接夹套组成,端头由连接夹套安装在靶筒的两端,靶轴支承座安装在端头内,靶轴的一端装有磁体移动机构,另一端装有靶材旋转机构。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射旋转靶,其特征在于所述靶轴贯穿靶筒,靶轴支承座内设有靶轴移动槽。
3.根据权利要求1所述的磁控溅射旋转靶,其特征在于所述靶轴的两端设有平面台阶,该平面台阶配合插接在靶轴移动槽内。
4.根据权利要求1所述的磁控溅射旋转靶,其特征在于所述磁体移动机构主要由电机、齿轮和齿条组成,电机的运动轴上装有齿轮,靶筒的端头装有齿条,齿轮与齿条啮合。
5.根据权利要求1所述的磁控溅射旋转靶,其特征在于所述靶轴装有靶材旋转机构的一端,其上的靶轴支承座的长度大于端头的长度。
6.根据权利要求1所述的磁控溅射旋转靶,其特征在于所述靶材旋转机构包括电机、主齿轮和副齿轮,电机的转动轴上装有主齿轮,靶筒的端头上装有副齿轮,主齿轮与副齿轮相啮合,带动靶材旋转。
7.根据权利要求1所述的磁控溅射旋转靶,其特征在于所述磁体包括固定块、封闭盒、靶靴和多组磁铁,磁铁安装在磁靴上,且置于封闭盒内,该封闭盒由固定块安装在靶轴上。
8.根据权利要求7所述的磁控溅射旋转靶,其特征在于所述磁体的封闭盒内装有冷却水。
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