[实用新型]垂直叠加式自动缓冲系统有效
| 申请号: | 201220207665.6 | 申请日: | 2012-05-09 |
| 公开(公告)号: | CN202549810U | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
| 发明(设计)人: | 唐强;朱海青;施成;钱继君;汤露奇 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673 |
| 代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
| 地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 垂直叠加 自动 缓冲 系统 | ||
1.一种垂直叠加式自动缓冲系统,包括晶圆盒保护装置、装载端口、壳体以及设于所述壳体内的晶圆处理装置,其特征在于:所述晶圆盒保护装置有多层,每层供放置一个晶圆盒,所述晶圆盒保护装置的每一层都与一个所述装载端口连接。
2.权利要求1所述的垂直叠加式自动缓冲系统,其特征在于:所述晶圆盒保护装置的每一层均设有底板、顶盖和左右侧壁。
3.权利要求1所述的垂直叠加式自动缓冲系统,其特征在于:所述壳体为两层的阶梯型结构,所述晶圆盒保护装置竖直立在壳体的第一阶梯层的上表面上,所述晶圆盒保护装置的背面连接壳体的第二阶梯层的正面表面,所述装载端口设在所述第二阶梯层的正面表面。
4.权利要求1所述的垂直叠加式自动缓冲系统,其特征在于:每个所述装载端口均设有一个自动门。
5.权利要求4所述的垂直叠加式自动缓冲系统,其特征在于:所述自动门采用横向平移打开方式。
6.权利要求4所述的垂直叠加式自动缓冲系统,其特征在于:所述晶圆盒保护装置与所述装载端口连接处设有所述自动门的自动感应系统。
7.权利要求1所述的垂直叠加式自动缓冲系统,其特征在于:所述晶圆处理装置至少包括一个晶圆传输机器,所述晶圆传输机器包括载货装置、旋转臂、旋转轴、垂直升降装置和水平旋转装置,所述载货装置设在旋转臂的末端,所述旋转臂以旋转轴为轴心旋转,所述垂直升降装置和所述水平旋转装置位于所述旋转轴上。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





